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龍圖騰網(wǎng)恭喜中國科學技術大學申請的專利一種高力學強度和高分辨率的納米壓印光刻膠及其噴墨打印方法獲國家發(fā)明授權專利權，本發(fā)明授權專利權由國家知識產(chǎn)權局授予，授權公告號為：CN119556529B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權局官網(wǎng)在2025-05-20發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉：該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為：202510103977.4，技術領域涉及：G03F7/027；該發(fā)明授權一種高力學強度和高分辨率的納米壓印光刻膠及其噴墨打印方法是由吳思;姜佳偉設計研發(fā)完成，并于2025-01-23向國家知識產(chǎn)權局提交的專利申請。

本一種高力學強度和高分辨率的納米壓印光刻膠及其噴墨打印方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明公開了一種高力學強度和高分辨率的納米壓印光刻膠及其噴墨打印方法。本發(fā)明納米壓印光刻膠主要針對噴墨打印與納米壓印技術的兼容性以及半導體領域中的高精度制造進行設計，在經(jīng)過篩選與調(diào)配后，可以由噴墨打印頭按需分配光刻膠液滴，快速打印所需圖案，最后通過納米壓印光刻機曝光實現(xiàn)50nm的高分辨率壓印。與現(xiàn)有技術中的納米壓印光刻膠相比，本發(fā)明的納米壓印光刻膠具有可快速噴墨打印、固化速率快、優(yōu)異的抗氧阻聚性能、高力學強度、高分辨率和易于脫模等優(yōu)點。本發(fā)明旨在提升納米壓印光刻膠在實際應用中的操作性與可靠性，在半導體先進制程等高精度制造領域具有潛在的應用前景。

本發(fā)明授權一種高力學強度和高分辨率的納米壓印光刻膠及其噴墨打印方法在權利要求書中公布了：1.一種納米壓印光刻膠，其特征在于其原料按質(zhì)量百分比構(gòu)成為：含雙鍵的剛性單體85wt%~95wt%，含巰基的剛性化合物1wt%~5wt%，光引發(fā)劑1wt%~5wt%，有機溶劑0wt%~1wt%；所述含雙鍵的剛性單體選自環(huán)己烷二甲醇二甲基丙烯酸酯、雙酚A甘油酯、間苯二甲酸二乙二醇二丙烯酸酯、甲基丙烯酸丙酮縮甘油酯中的一種或幾種；所述含巰基的剛性化合物選自四巰基苯、1,3,5-苯三硫酚中的一種或幾種。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢嗳?a target="_blank" rel="noopener noreferrer nofollow" >中國科學技術大學，其通訊地址為：230026 安徽省合肥市包河區(qū)金寨路96號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。