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本發(fā)明授權(quán)一種原位制備聚苯硫醚基膜電極的方法在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種原位制備聚苯硫醚基膜電極的方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：步驟1、將聚苯硫醚布進(jìn)行等離子體處理，使聚苯硫醚表面具有親水基團(tuán)；再將處理后的聚苯硫醚布浸泡于酸性溶液或堿性溶液中，然后清洗后干燥，得到親水聚苯硫醚隔膜；步驟2、在步驟1的親水聚苯硫醚隔膜表面澆筑一層摻有稀土離子或鐵系元素離子的PAN或PVP溶液，干燥后，得到復(fù)合聚苯硫醚隔膜；稀土離子為鈰離子；鐵系元素離子為亞鐵離子、二價(jià)鈷離子和二價(jià)鎳離子中的至少一種；步驟3、利用二氧化碳激光雕刻對(duì)步驟2的復(fù)合聚苯硫醚隔膜中含有稀土離子或鐵系元素離子的PAN或PVP聚合物層進(jìn)行激光雕刻，形成稀土離子或鐵系元素離子摻雜的石墨烯，得到堿性電解水用聚苯硫醚基膜電極。

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