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龍圖騰網(wǎng)恭喜優(yōu)美科觸媒日本有限公司申請的專利廢氣凈化用催化劑、廢氣的凈化方法和廢氣凈化用催化劑的制造方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN114340784B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-16發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202080062964.2，技術領域涉及：B01J23/44；該發(fā)明授權(quán)廢氣凈化用催化劑、廢氣的凈化方法和廢氣凈化用催化劑的制造方法是由小系祐介;F·道恩豪斯設計研發(fā)完成，并于2020-10-06向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本廢氣凈化用催化劑、廢氣的凈化方法和廢氣凈化用催化劑的制造方法在說明書摘要公布了：廢氣凈化用催化劑，其包含：三維結(jié)構(gòu)體10，和載持于所述三維結(jié)構(gòu)體10、包含含有鉑和鈀的貴金屬復合體22和多孔體21的所述催化劑成分100，所述鉑的表面富集率CPt為0.00070以上且0.01000以下，所述鈀的表面富集率CPd為0.00800以上且0.10000以下，所述表面富集率CPt用CPt＝PXPSPtd2×PTEMPt×0.01表示，所述表面富集率CPd用CPd＝PXPSPdd2×PTEMPd×0.01表示。

本發(fā)明授權(quán)廢氣凈化用催化劑、廢氣的凈化方法和廢氣凈化用催化劑的制造方法在權(quán)利要求書中公布了：1.廢氣凈化用催化劑，其包含：三維結(jié)構(gòu)體，和載持于所述三維結(jié)構(gòu)體的催化劑成分，所述催化劑成分包含含有鉑和鈀的貴金屬復合體、和多孔體，其中，所述貴金屬復合體相對于所述多孔體的平均濃度高于所述多孔體的中心處的所述貴金屬復合體的濃度，并且不是核-殼狀態(tài)，所述鉑的表面富集率C（Pt）為0.00110以上且0.00400以下，所述鈀的表面富集率C（Pd）為0.01500以上且0.07000以下，所述鈀的表面富集率C（Pd）相對于所述鉑的表面富集率C（Pt）的比C（Pd）C（Pt）為13.5以上且23以下，所述表面富集率C（Pt）用C（Pt）＝PXPS（Pt）（d2×PTEM（Pt）×0.01）表示，所述表面富集率C（Pd）用C（Pd）＝PXPS（Pd）（d2×PTEM（Pd）×0.01）表示，所述d表示通過X射線衍射法（XRD）求出的所述貴金屬復合體的微晶直徑，所述PXPS（Pt）表示通過X射線光電子能譜法（XPS）求出的所述鉑相對于催化劑成分的質(zhì)量百分比濃度，所述PXPS（Pd）表示通過X射線光電子能譜法（XPS）求出的所述鈀相對于催化劑成分的質(zhì)量百分比濃度，所述PTEM（Pt）表示通過透射電子顯微鏡‐能量色散X射線能譜法（TEM-EDS）求出的所述鉑相對于所述貴金屬復合體的質(zhì)量百分比濃度，所述PTEM（Pd）表示通過透射電子顯微鏡‐能量色散X射線能譜法（TEM-EDS）求出的所述鈀相對于所述貴金屬復合體的質(zhì)量百分比濃度，所述d為1nm以上且50nm以下。

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