恭喜軍事科學院系統工程研究院網絡信息研究所郭凱獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜軍事科學院系統工程研究院網絡信息研究所申請的專利基于二維層狀材料的芯片集成光控調制方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114624902B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-16發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202011443332.9，技術領域涉及：G02F1/01；該發明授權基于二維層狀材料的芯片集成光控調制方法是由郭凱;侯文佐;陳浩;閆培光設計研發完成，并于2020-12-08向國家知識產權局提交的專利申請。
本基于二維層狀材料的芯片集成光控調制方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種基于二維層狀材料的芯片集成光控調制方法，將以過渡金屬硫化物為代表的二維層狀材料大面積定向轉移至芯片集成光學調制器表面，通過光場輻射產生自由載流子并調節芯片集成波導折射率，實現對芯片集成波導內傳輸光場的相位調制。本發明所述光控調制方法避免了調制電壓過高引起的芯片集成波導擊穿，同時具備同電光調制方法相近的調制速度，高度兼容于現有絕緣體上硅無源光學器件制備工藝，有望推動芯片集成光學調制器標準化制備發展進程，為全光驅動芯片集成光路提供重要參考。
本發明授權基于二維層狀材料的芯片集成光控調制方法在權利要求書中公布了：1.一種基于二維層狀材料的芯片集成光控調制方法，通過標準工藝流程制備芯片集成光學調制器無源部分，將二硫化鉬二維層狀材料無損定向轉移至傳輸波導表面，實現二維層狀材料和波導表面的有效貼合；用調制信號控制外接光源產生復刻調制信號的輻射光場，用輻射光場照射待調制區域的二維層狀材料，通過光電效應產生自由載流子并引起傳輸波導折射率變化，此折射率變化將影響在波導內傳輸的光場相位，實現以輻射光場為驅動源的芯片集成光場調制。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人軍事科學院系統工程研究院網絡信息研究所，其通訊地址為：100141 北京市豐臺區大成路13號院；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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