恭喜蘇州光舵微納科技股份有限公司劉曉成獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜蘇州光舵微納科技股份有限公司申請的專利一種真空吸盤、納米壓印設備及其控制方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114442424B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-16發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210252878.9，技術領域涉及：G03F7/00；該發明授權一種真空吸盤、納米壓印設備及其控制方法是由劉曉成;宋崇順;何釗;史曉華設計研發完成，并于2022-03-15向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種真空吸盤、納米壓印設備及其控制方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種真空吸盤、納米壓印設備及其控制方法，用于納米壓印設備，所述納米壓印設備包括滾壓機構，所述真空吸盤包括：吸盤本體；吸附孔，所述吸附孔陣列設置在所述吸盤本體上，沿與滾壓機構輥壓前進方向垂直的方向的一列或多列吸附孔連通形成一個吸附單元，所述吸附孔陣列形成多個吸附單元。本發明的有益之處在于，通過設置陣列排布的吸附孔，在壓印過程中逐步吸真空，使軟膜在壓印過程中不出現褶皺和氣泡，同時使軟膜與基板配合更加緊密，壓印效果更好，在加工完成后，逐步破真空，方便軟膜的拿取。
本發明授權一種真空吸盤、納米壓印設備及其控制方法在權利要求書中公布了：1.一種真空吸盤，用于納米壓印設備，所述納米壓印設備包括滾壓機構，其特征在于，所述真空吸盤包括：吸盤本體1；吸附孔2，所述吸附孔2陣列設置在所述吸盤本體1上，沿與滾壓機構輥壓前進方向垂直的方向的一列或多列吸附孔2連通形成一個吸附單元，所述吸附孔2陣列形成多個吸附單元；其中，所述吸附單元連接有負壓控制裝置，所述負壓控制裝置可獨立控制所述吸附單元；并且其中，所述吸盤本體1上表面還設置有定位槽12，所述定位槽12內設置有多個環形真空槽13，所述真空槽13內設置有氣孔；所述定位槽12內設置有貫穿所述真空槽13的貫穿槽14。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人蘇州光舵微納科技股份有限公司，其通訊地址為：215000 江蘇省蘇州市常熟市虞山高新區建業路2號常熟先進制造業科技園7C幢1、2樓；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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