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龍圖騰網恭喜中國科學院上海光學精密機械研究所申請的專利真空環境中短脈沖高斯光束有效光斑面積的測量方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115060466B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-16發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210729383.0，技術領域涉及：G01M11/02；該發明授權真空環境中短脈沖高斯光束有效光斑面積的測量方法是由劉曉鳳;龔赫;趙元安;帥坤;李大偉;陶春先;朱翔宇;邵建達設計研發完成，并于2022-06-24向國家知識產權局提交的專利申請。

本真空環境中短脈沖高斯光束有效光斑面積的測量方法在說明書摘要公布了：一種真空環境中短脈沖高斯光束有效光斑面積的測量方法，包括脈沖激光器、快門、能量調節器、聚焦透鏡、取樣鏡、金屬靶、樣品臺、能量計、計算機、真空室。該方法基于金屬靶的損傷輪廓與高斯光束能量分布特性之間的關聯，通過測量金屬靶106上損傷輪廓對應面積隨輻照激光能量的變化，擬合得出短脈沖激光高斯光束在真空環境中焦點位置的有效光斑面積。該方法簡單可行，可以準確測量真空環境中短脈沖激光在不同入射角下的有效光斑面積。

本發明授權真空環境中短脈沖高斯光束有效光斑面積的測量方法在權利要求書中公布了：1.一種真空環境中短脈沖高斯光束有效光斑面積的測量方法，其特征在于，包括步驟如下：S1搭建測量光路：S1.1將金屬靶106放置在樣品臺107上，并置于真空室110；S1.2沿短脈沖激光器101的輸出脈沖激光方向依次放置快門102、能量調節器103和聚焦透鏡104，沿該聚焦透鏡104透射光路方向，依次放置取樣鏡105和金屬靶106，使脈沖激光經輻照所述金屬靶106的表面，且該表面位于所述聚焦透鏡104的焦點位置；沿所述聚焦透鏡104反射光路方向放置能量計108，用于測量反射光的能量，并傳輸至計算機109；所述快門102、能量調節器103和能量計108分別與計算機109相連；S2脈沖激光輻照金屬靶106表面的不同區域，記錄能量計108的示數Ei：S2.1打開短脈沖激光器101，輸出固定頻率的脈沖激光，所述計算機109控制所述快門102處于常開狀態，使脈沖激光經輻照所述金屬靶106的表面某一區域；S2.2計算機109控制所述能量調節器103由小到大逐漸調節光路中的激光能量，同時，人眼觀測所述金屬靶106表面：當所述金屬靶106表面開始產生可見等離子閃光，記錄此時所述能量計108的示數為E0min；當所述金屬靶106表面開始產生強烈等離子閃光時，記錄此時能量計108的示數為E0max；S2.3計算機109控制快門102關閉，且確保真空室110處于真空狀態；S2.4計算機109控制所述能量調節器103調節光路中的激光能量，使得所述能量計108的示數至E0min；S2.5移動所述樣品臺107，使脈沖激光經輻照所述金屬靶106的表面其他區域；S2.6計算機109控制所述快門102抽取一個激光脈沖，并記錄此時所述能量計108的示數為E0i，其中i＝1,2,3,…；S2.7計算機109控制所述能量調節器103，抬升光路中的激光能量；S2.8重復S2.5～S2.7，直至抬升到所述能量計108的示數E0i達到E0max為止；S3計算短脈沖高斯光束有效光斑面積AT,eff：S3.1計算脈沖激光輻照金屬靶106表面不同區域的能量Ei，公式如下：Ei＝E0iN式中，N為分光比；S3.2利用顯微鏡測量各個損傷輪廓的面積Si；S3.3將能量Ei與對應損傷輪廓的面積Si擬合，公式如下，得到曲線斜率即為短脈沖高斯光束有效光斑面積AT,eff；SiEi＝AT,eff*lnEi-AT,eff*lnAT,eff*Hc式中，Hc為損傷輪廓處對應的能量密度，通過對比任一損傷輪廓與其對應輻照高斯光束在金屬靶面的能量分布獲得。

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