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龍圖騰網恭喜華海清科股份有限公司;清華大學申請的專利一種化學機械拋光液和化學機械拋光方法獲國家發(fā)明授權專利權，本發(fā)明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116606595B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-16發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉：該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為：202310513145.0，技術領域涉及：C09G1/02；該發(fā)明授權一種化學機械拋光液和化學機械拋光方法是由張力飛;王同慶;王淑慧;路新春設計研發(fā)完成，并于2023-05-09向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種化學機械拋光液和化學機械拋光方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供了一種化學機械拋光液和化學機械拋光方法，所述化學機械拋光液包括磨料、氧化劑、絡合劑、緩蝕劑、表面活性劑和水；其中，所述表面活性劑包括脂肪醇聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚、聚乙烯吡咯烷酮、八苯基聚氧乙炔或吐溫?80中的任意一種或至少兩種的組合。本發(fā)明在拋光液中加入合適的表面活性劑，能夠改善拋光液的分散穩(wěn)定性，使表面活性劑吸附在磨粒的表面，從而改變磨料的表面性質，可有效去除拋光過程中的有機物殘留和顆粒污染等，而且為第二步精拋提供了更好的拋光基礎，防止粗拋后的殘留物在精拋過程中對晶片造成損傷。

本發(fā)明授權一種化學機械拋光液和化學機械拋光方法在權利要求書中公布了：1.一種用于粗拋鈷互連晶圓結構的化學機械拋光液，其特征在于，所述化學機械拋光液由磨料、氧化劑、絡合劑、緩蝕劑、表面活性劑和水組成；其中，所述磨料為采用烷氧基硅烷水解方式制備的膠體二氧化硅，其中二氧化硅微粒的直徑為10nm-200nm；所述氧化劑包括過氧化氫、過氧乙酸、過硫酸鉀或過硫酸銨中的任意一種或至少兩種的組合，所述絡合劑包括檸檬酸、甘氨酸或乙二胺四乙酸中的任意一種或至少兩種的組合，所述緩蝕劑包括1,2,4-三氮唑、油酸鉀或1-苯基-5-巰基四氮唑中的任意一種或至少兩種的組合，所述拋光液的pH值為9.5-11；所述表面活性劑由壬基酚聚氧乙烯醚和聚乙烯吡咯烷酮組成，所述表面活性劑的濃度為500-1500ppm，所述壬基酚聚氧乙烯醚和所述聚乙烯吡咯烷酮的濃度比為1:1-3。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人華海清科股份有限公司;清華大學，其通訊地址為：300350 天津市津南區(qū)咸水沽鎮(zhèn)聚興道11號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。