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龍圖騰網(wǎng)恭喜蘇州鎂伽科技有限公司申請的專利一種套刻測量方法、裝置、設(shè)備及存儲介質(zhì)獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN119376194B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-16發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202411931229.7，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03F7/20；該發(fā)明授權(quán)一種套刻測量方法、裝置、設(shè)備及存儲介質(zhì)是由王志彥設(shè)計研發(fā)完成，并于2024-12-26向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種套刻測量方法、裝置、設(shè)備及存儲介質(zhì)在說明書摘要公布了：本申請公開了一種套刻測量方法、裝置、設(shè)備及存儲介質(zhì)，涉光刻技術(shù)領(lǐng)域。本申請應(yīng)用于成像套刻測量設(shè)備的控制器，響應(yīng)對待測晶圓的測試指令，移動光闌至多個測試位置，測量每個測試位置下由設(shè)備引入的誤差；依據(jù)測試位置的變化對設(shè)備誤差的影響，確定設(shè)備誤差最小的情況下，待測晶圓對應(yīng)的目標(biāo)光闌位置；調(diào)整光闌至目標(biāo)光闌位置，并控制成像套刻測量設(shè)備，對待測晶圓中的套刻標(biāo)記進(jìn)行套刻測量。本申請?jiān)谟晒怅@引入的誤差最小的情況下，對待測晶圓進(jìn)行套刻測量，提升套刻測量的準(zhǔn)確性。

本發(fā)明授權(quán)一種套刻測量方法、裝置、設(shè)備及存儲介質(zhì)在權(quán)利要求書中公布了：1.一種套刻測量方法，其特征在于，應(yīng)用于成像套刻測量設(shè)備的控制器，所述成像套刻測量設(shè)備包括至少一個光闌，所述套刻測量方法包括：響應(yīng)于測試指令，獲取所述至少一個光闌中一光闌對應(yīng)的預(yù)設(shè)個數(shù)的測試位置；控制所述光闌依次移動至每個所述測試位置對待測晶圓進(jìn)行套刻測量，分別獲取所述成像套刻測量設(shè)備在每個所述測試位置下的設(shè)備誤差，所述設(shè)備誤差表征所述光闌位置變化引入的誤差；依據(jù)所述測試位置的變化對所述設(shè)備誤差的影響，確定所述待測晶圓對應(yīng)的目標(biāo)光闌位置；調(diào)整所述光闌至所述目標(biāo)光闌位置，并控制所述成像套刻測量設(shè)備，對所述待測晶圓中的套刻標(biāo)記進(jìn)行套刻測量。

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