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龍圖騰網恭喜研能科技股份有限公司申請的專利微流體致動器獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN111217316B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-13發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201811404394.1，技術領域涉及：B81B3/00；該發明授權微流體致動器是由莫皓然;余榮侯;張正明;戴賢忠;廖文雄;黃啟峰;韓永隆;陳宣愷設計研發完成，并于2018-11-23向國家知識產權局提交的專利申請。

本微流體致動器在說明書摘要公布了：一種微流體致動器，包含一基板、一腔體層、一振動層、一下電極層、一上電極層、一孔板層及一流道層。基板通過蝕刻制程形成一出流孔洞、多個第一進流孔洞以及一第二進流孔洞。腔體層形成于基板上，并通過蝕刻制程形成一儲流腔室。振動層形成于腔體層上。下電極層形成于振動層上。壓電致動層形成于下電極層上。上電極層形成于壓電致動層上。孔板層通過蝕刻制程形成一出流口以及一進流口。流道層形成于孔板層之上，通過光刻制程形成一出流通道及一進流通道，并接合于基板。提供驅動電源至上電極層及下電極層，以驅動并控制振動層產生上下位移，以完成流體傳輸。

本發明授權微流體致動器在權利要求書中公布了：1.一種微流體致動器，其特征在于，包含：一基板，具有一第一表面及一第二表面，通過蝕刻制程形成一出口溝槽、一進口溝槽、一出流孔洞、多個第一進流孔洞以及一第二進流孔洞，該出口溝槽與該出流孔洞相連通，該進口溝槽與該多個第一進流孔洞以及該第二進流孔洞相連通；一腔體層，通過沉積制程形成于該基板的該第一表面上，且通過蝕刻制程形成一儲流腔室，該儲流腔室與該出流孔洞、該多個第一進流孔洞以及該第二進流孔洞相連通；一振動層，通過沉積制程形成于該腔體層上；一下電極層，通過沉積制程及蝕刻制程形成于該振動層上；一壓電致動層，通過沉積制程及蝕刻制程形成于該下電極層上；一上電極層，通過沉積制程及蝕刻制程形成于該壓電致動層上；一孔板層，通過蝕刻制程形成一出流口以及一進流口；以及一流道層，通過一干膜材料滾壓制程形成于該孔板層之上，通過光刻制程形成一出流通道、一進流通道以及多個柱狀結構，通過覆晶對位制程與熱壓制程接合于該基板的該第二表面，該孔板層的該出流口借由該出流通道與該基板的該出口溝槽相連通，該孔板層的該進流口借由該進流通道與該基板的該進口溝槽相連通；其中，提供具有不同相位電荷的驅動電源至該上電極層以及該下電極層，以驅動并控制該振動層產生上下位移，使流體自該進流口吸入，通過該多個第一進流孔洞以及該第二進流孔洞流至該儲流腔室，最后受擠壓經由該出流孔洞后自該出流口排出以完成流體傳輸。

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