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龍圖騰網恭喜科磊股份有限公司申請的專利用于校正晶片傾斜對偏移測量的影響的系統及方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115380367B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-13發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080099200.0，技術領域涉及：H01L21/67；該發明授權用于校正晶片傾斜對偏移測量的影響的系統及方法是由V·萊溫斯基;D·內格里;A·瑪納森設計研發完成，并于2020-04-05向國家知識產權局提交的專利申請。

本用于校正晶片傾斜對偏移測量的影響的系統及方法在說明書摘要公布了：一種用于校正半導體晶片的偏移測量中因晶片傾斜而引起的誤差的方法，所述方法包含：對于晶片上的至少一個位置，測量相對于所述晶片的第一照明布置中的計量裝置的工具誘導轉移TIS與相對于所述晶片的第二照明布置中的所述計量裝置的TIS之間的差值，其中在所述第一照明布置中所述晶片的表面大體上由所述計量裝置的照明源正交地照明，而其中在所述第二照明布置中所述表面由所述照明源傾斜地照明；及通過從由所述計量裝置在所述至少一個位置處所測量的偏移測量中減去所述第一與第二照明布置中的TIS之間的差值的加權值，校正所述偏移測量中因所述位置處所述晶片的傾斜引起的誤差。

本發明授權用于校正晶片傾斜對偏移測量的影響的系統及方法在權利要求書中公布了：1.一種用于校正半導體晶片的偏移測量中因所述晶片的傾斜而引起的誤差的方法，其包括：對于晶片上的至少一個位置，測量相對于所述晶片的第一照明布置中的計量裝置的工具誘導轉移TIS與相對于所述晶片的第二照明布置中的所述計量裝置的TIS之間的差值，其中在所述第一照明布置中所述晶片的表面大體上由所述計量裝置的照明源正交地照明，而其中在所述第二照明布置中所述表面由所述照明源傾斜地照明；及通過從由所述計量裝置在所述至少一個位置處所測量的偏移測量中減去所述第一及第二照明布置中的所述TIS之間的所述差值的加權值，校正所述偏移測量中因所述位置處所述晶片的傾斜引起的誤差，其中所述第一及第二照明布置中的所述TIS之間的所述差值包括作為所述計量裝置的參數的函數而變化的特征輪廓，其中所述計量裝置通過多個波長照明所述晶片，且測量所述計量裝置的TIS中的所述差值作為所述多個波長的函數，其中在所述晶片上的多個位置Ns處執行TIS中的所述差值的所述測量，且測量所述計量裝置的TIS中的所述差值作為所述多個位置中的每一者的所述多個波長的函數，以及其中通過將所述第一及第二照明布置中的所述TIS之間的所述差值乘以加權系數來計算所述第一及第二照明布置中的所述TIS之間的所述差值的所述加權值。

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