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龍圖騰網(wǎng)恭喜三星SDI株式會(huì)社申請(qǐng)的專利抗蝕劑底層組合物和使用所述組合物形成圖案的方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN113138532B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-13發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202110056902.7，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03F7/004；該發(fā)明授權(quán)抗蝕劑底層組合物和使用所述組合物形成圖案的方法是由崔有廷;權(quán)純亨;樸賢;白載烈;金旼秀;裵信孝;宋大錫;安度源設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-01-15向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本抗蝕劑底層組合物和使用所述組合物形成圖案的方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明公開一種抗蝕劑底層組合物，包含：A包含由化學(xué)式1表示的結(jié)構(gòu)單元、由化學(xué)式2表示的化合物或其組合的聚合物；B包含其中由化學(xué)式3或化學(xué)式4表示的部分中的至少一個(gè)和由化學(xué)式7表示的部分彼此鍵結(jié)的結(jié)構(gòu)的聚合物；以及C溶劑；且還公開一種使用抗蝕劑底層組合物形成圖案的方法，化學(xué)式1到化學(xué)式4和化學(xué)式7的定義如說明書中所描述。

本發(fā)明授權(quán)抗蝕劑底層組合物和使用所述組合物形成圖案的方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種抗蝕劑底層組合物，包括：A包含由化學(xué)式1表示的結(jié)構(gòu)單元、由化學(xué)式2表示的化合物或其組合的聚合物；B包含其中由化學(xué)式3或化學(xué)式4表示的部分中的至少一個(gè)和由化學(xué)式7表示的部分彼此鍵結(jié)的結(jié)構(gòu)的聚合物；以及C溶劑：[化學(xué)式1] 其中，在化學(xué)式1中，R1和R2獨(dú)立地為羥基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1到C20烷氧基、鹵素、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1到C20烷基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C2到C30烯基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C2到C20炔基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C6到C30芳基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C6到C30雜芳基或其組合，L1和L2獨(dú)立地為單鍵、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1到C20亞烷基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C3到C20亞環(huán)烷基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C6到C30亞芳基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1到C20亞雜烷基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C2到C20亞雜環(huán)烷基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C2到C30亞雜芳基或其組合，且*為鍵聯(lián)點(diǎn)；[化學(xué)式2] 其中，在化學(xué)式2中，R3到R6獨(dú)立地為羥基、硫醇基、氰基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的氨基、鹵素原子、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1到C30烷基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1到C30烷氧基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C6到C30芳基或其組合，且L3為單鍵、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1到C30亞烷基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C6到C30亞芳基或其組合；[化學(xué)式3] [化學(xué)式4] 其中，在化學(xué)式3和化學(xué)式4中，Ra和Rb獨(dú)立地為氫、氘、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1到C10烷基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C2到C20烯基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C2到C20炔基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C3到C20環(huán)烷基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C6到C20芳基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1到C10雜烷基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C2到C20雜烯基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C3到C20雜環(huán)烷基、或經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C6到C20雜芳基或其組合，Rc為以下各項(xiàng)：末端基團(tuán)，為經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1到C10烷基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C2到C20烯基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C2到C20炔基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C3到C20環(huán)烷基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1到C10雜烷基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C2到C20雜烯基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C3到C20雜環(huán)烷基或其組合；由鍵聯(lián)到所述末端基團(tuán)的化學(xué)式5或化學(xué)式6表示的結(jié)構(gòu)單元；或由其組合表示的基團(tuán)，且化學(xué)式3或化學(xué)式4在每一個(gè)*位置處鍵聯(lián)到由化學(xué)式7中的*所指示的點(diǎn)；[化學(xué)式5] [化學(xué)式6] 其中，在化學(xué)式5和化學(xué)式6中，L3和L4獨(dú)立地為經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1到C20亞烷基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1到C20亞雜烷基或其組合，Ra和Rb獨(dú)立地與化學(xué)式3和化學(xué)式4中定義的相同，且*為鍵聯(lián)點(diǎn)；[化學(xué)式7] 其中，在化學(xué)式7中，A為單鍵、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1到C10亞烷基、-C＝O-、-COO-、-OCOO-或其組合，X為單鍵、-O-、-S-、-S＝O-、-S＝O2-、-C＝O-、-COO-、-OCOO-、-NR-或其組合，其中R為氫、氘或C1到C10烷基，Rd為氫、氘、鹵素、羥基、氰基、硝基、氨基、環(huán)氧基、甲基丙烯酸酯基、氧雜環(huán)丁烷基、硫醇基、羧基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1到C30烷基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C2到C30烯基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C2到C30炔基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1到C10烷氧基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C3到C10環(huán)烷基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C6到C30芳基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C6到C30芳氧基或其組合，Re為氫、氘以及C1到C10烷基中的一個(gè)，n1為1到10,000，且*鍵聯(lián)到化學(xué)式3或化學(xué)式4，或鍵聯(lián)到氫、氘、鹵素、羥基、氰基、硝基、氨基、環(huán)氧基、甲基丙烯酸酯基、氧雜環(huán)丁烷基、硫醇基、羧基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1到C30烷基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C2到C30烯基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C2到C30炔基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1到C10烷氧基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C3到C10環(huán)烷基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C6到C30芳基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C6到C30芳氧基或其組合，前提是化學(xué)式3或化學(xué)式4中的至少一個(gè)鍵聯(lián)到化學(xué)式7中的*。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人三星SDI株式會(huì)社，其通訊地址為：韓國京畿道龍仁市器興區(qū)貢稅路150-20號(hào)；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。