恭喜武漢華星光電技術有限公司宋德偉獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜武漢華星光電技術有限公司申請的專利一種顯示面板及其制造方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114122023B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-13發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202111399636.4,技術領域涉及:H10D86/60;該發明授權一種顯示面板及其制造方法是由宋德偉;艾飛設計研發完成,并于2021-11-19向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種顯示面板及其制造方法在說明書摘要公布了:本申請提供一種顯示面板及其制造方法,顯示面板包括:襯底基板和設置于襯底基板上的薄膜晶體管層,薄膜晶體管層包括層間介質層和設置于層間介質層上的金屬層,金屬層包括多個間隔設置的金屬電極;其中,層間介質層包括基體介質層和位于基體介質層上的非絕緣介質層,基體介質層與金屬電極鄰接設置,非絕緣介質層位于金屬電極之間的間隙區域。本申請通過在層間介質層對應金屬電極之間的間隙區域形成非絕緣介質層,從而能夠降低金屬層在圖案化過程中電漿在層間介質層上的反射率,優化金屬電極的側面形態,大大降低顯示面板出現黑階條紋、亮暗線等問題的幾率,達到提升顯示面板良率的目的。
本發明授權一種顯示面板及其制造方法在權利要求書中公布了:1.一種顯示面板,其特征在于,所述顯示面板包括:襯底基板和設置于所述襯底基板上的薄膜晶體管層,所述薄膜晶體管層包括層間介質層和設置于所述層間介質層上的金屬層,所述金屬層包括多個間隔設置的金屬電極;其中,所述層間介質層包括基體介質層和位于所述基體介質層上的非絕緣介質層,所述基體介質層與所述金屬電極鄰接設置,所述非絕緣介質層位于所述金屬電極之間的間隙區域中靠近所述金屬電極邊緣的區域。
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