恭喜萬華化學集團股份有限公司董超獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜萬華化學集團股份有限公司申請的專利一種光氣化制備MDI的循環溶劑及其提純方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116217439B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-13發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202310003120.6，技術領域涉及：C07C263/10；該發明授權一種光氣化制備MDI的循環溶劑及其提純方法是由董超;趙東科;張金強;文放;張宏科;周宇杰;黃薦;朱健;范石曉設計研發完成，并于2023-01-03向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種光氣化制備MDI的循環溶劑及其提純方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種光氣化制備MDI的循環溶劑及其提純方法，通過控制循環溶劑中鹵代烴類物質質量含量循環溶劑中鹵代烴類物質質量含量，可改善產品品質，降低產品色號。采用隔壁塔組合多效精餾的方式，可實現鹵代烴類物質和溶劑的高效分離，產品質量大幅提升，可直接循環使用。該方法合并了異氰酸酯粗品精制過程中的脫氣和脫溶劑系統，節省了溶劑提純單元，實現能量的完全耦合，工藝簡單可靠，可大幅降低投資和運行成本。
本發明授權一種光氣化制備MDI的循環溶劑及其提純方法在權利要求書中公布了：1.一種光氣化制備MDI的循環溶劑的提純方法，所述方法包括以下步驟：a、光氣化反應：將二苯基甲烷二胺和光氣在惰性溶劑下發生光氣化反應生成光化反應液；b、隔壁分離：反應液在隔壁塔中分離提純，塔頂采出含光氣和HCl的輕組分，塔中采出氣相溶劑作為采出溶劑，塔釜濃縮液送至溶劑脫除單元；c、溶劑脫除：來自步驟b中的塔釜濃縮液在溶劑脫除塔中進一步減壓蒸餾，溶劑脫除塔塔頂冷凝液作為冷凝溶劑；所述步驟a中惰性溶劑循環使用，循環溶劑中鹵代烴類物質質量含量為0.1-200ppm；循環溶劑包括采出溶劑和冷凝溶劑。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人萬華化學集團股份有限公司，其通訊地址為：264006 山東省煙臺市經濟技術開發區重慶大街59號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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