恭喜廣東風華高新科技股份有限公司麥俊獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜廣東風華高新科技股份有限公司申請的專利一種薄膜片式電阻器及其制備方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114242361B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-06發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202111473325.8,技術領域涉及:H01C17/065;該發明授權一種薄膜片式電阻器及其制備方法是由麥俊;陸錦松;陳潔峰;楊理強;林瑞芬;練潔蘭;莫雪瓊;周慶波設計研發完成,并于2021-11-29向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種薄膜片式電阻器及其制備方法在說明書摘要公布了:本發明提供了一種薄膜片式電阻器及其制備方法,涉及電阻器技術領域。本發明提供的薄膜片式電阻器,包括基板、金剛石襯底、電阻層、金剛石保護層、外保護層、引出電極和端子焊接層,其中,所述電阻層設置于所述金剛石襯底和所述金剛石保護層之間。本發明通過在現有薄膜電阻器的基礎上,引入金剛石襯底和金剛石保護層,將電阻層設置于金剛石襯底和金剛石保護層之間,提高片式電阻器中電阻層的散熱能力、電阻功率水平,避免出現電化學腐蝕現象。
本發明授權一種薄膜片式電阻器及其制備方法在權利要求書中公布了:1.一種薄膜片式電阻器,其特征在于,包括基板、金剛石襯底、電阻層、金剛石保護層、外保護層、引出電極和端子焊接層,其中,所述電阻層設置于所述金剛石襯底和所述金剛石保護層之間;所述金剛石襯底的厚度為20μm;所述基板的材質為純度99%的氧化鋁陶瓷,所述基板的Ra值為0.2-0.4μm;所述薄膜片式電阻器的制備方法為如下:采用微波等離子體沉積技術制備金剛石襯底,包括如下a-c:a采用CH4H2為氣源,CH4和H2的體積比為CH4:H2=1-9:91-99;b微波功率為10kW-15kW;c氣體壓強為10-20kPa;采用微波等離子體沉積技術制備金剛石保護層,包括如下d-f:d采用CH4ArH2為氣源,CH4、Ar和H2的體積比為CH4:Ar:H2=1.5-3.5:25-45:52-72;e微波功率為500W-1000W;f氣體壓強為1-3kPa。
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