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龍圖騰網(wǎng)恭喜江蘇啟微半導(dǎo)體設(shè)備有限公司;至微半導(dǎo)體(上海)有限公司申請(qǐng)的專利一種單片式晶圓清洗裝置及其整體潔凈度的控制方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN114420540B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-06發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202111677803.7，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/02；該發(fā)明授權(quán)一種單片式晶圓清洗裝置及其整體潔凈度的控制方法是由陳丁堃;鄧信甫;丁立設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-12-31向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種單片式晶圓清洗裝置及其整體潔凈度的控制方法在說(shuō)明書摘要公布了：本發(fā)明涉及一種單片式晶圓清洗工藝中整體潔凈度的控制方法，氣體噴流管道向所述晶圓平臺(tái)提供旋轉(zhuǎn)噴流純凈氣體的過(guò)程包括：以增壓、減壓、增壓循環(huán)的方式向所述晶圓平臺(tái)提供旋轉(zhuǎn)噴流的純凈氣體；或和以靠近、遠(yuǎn)離、靠近循環(huán)的方式向所述晶圓平臺(tái)提供旋轉(zhuǎn)噴流的純凈氣體；或和以熱風(fēng)、冷風(fēng)、熱風(fēng)循環(huán)的方式向所述晶圓平臺(tái)提供旋轉(zhuǎn)噴流的純凈氣體。本發(fā)明中單片式晶圓清洗工藝中整體潔凈度的控制方法能夠選擇以增壓、減壓、增壓循環(huán)，靠近、遠(yuǎn)離、靠近循環(huán)或是熱風(fēng)、冷風(fēng)、熱風(fēng)循環(huán)中的至少一種方式對(duì)晶圓的表面以及晶圓平臺(tái)進(jìn)行整體式清洗，從而控制單片式晶圓清洗工藝中的整體潔凈度；超臨界液態(tài)二氧化碳流體可以進(jìn)一步地溶解殘留的有機(jī)物。

本發(fā)明授權(quán)一種單片式晶圓清洗裝置及其整體潔凈度的控制方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種單片式晶圓清洗工藝中整體潔凈度的控制方法，包括：在所述晶圓的清洗工程中，通過(guò)氣體噴流管道向所述晶圓平臺(tái)提供旋轉(zhuǎn)噴流的純凈氣體，并通過(guò)氣體排放管道向所述晶圓平臺(tái)提供負(fù)壓，以抽除氣體；其特征在于，所述氣體噴流管道向所述晶圓平臺(tái)提供旋轉(zhuǎn)噴流純凈氣體的過(guò)程包括：以增壓、減壓、增壓循環(huán)的方式向所述晶圓平臺(tái)提供旋轉(zhuǎn)噴流的純凈氣體；和以靠近、遠(yuǎn)離、靠近循環(huán)的方式向所述晶圓平臺(tái)提供旋轉(zhuǎn)噴流的純凈氣體；和以熱風(fēng)、冷風(fēng)、熱風(fēng)循環(huán)的方式向所述晶圓平臺(tái)提供旋轉(zhuǎn)噴流的純凈氣體。

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