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龍圖騰網恭喜中國核電工程有限公司申請的專利一種托卡馬克磁約束聚變電站的氚工廠布置結構獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115171919B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-06發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210640176.8，技術領域涉及：G21B1/05；該發明授權一種托卡馬克磁約束聚變電站的氚工廠布置結構是由貝晨;谷振杰;王振中;薛靜;吳巧英;賈小攀;褚松良;趙曉山;蘇錦成;樊彥芳設計研發完成，并于2022-06-08向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種托卡馬克磁約束聚變電站的氚工廠布置結構在說明書摘要公布了：本發明涉及一種托卡馬克磁約束聚變電站的氚工廠布置結構，屬于核工程廠房布局技術領域，按功能劃分所述氚工廠包括機械貫穿區、內燃料循環系統設備區、外燃料循環系統設備區、水去氚化系統設備區、通風除氚系統設備區、綜合布置區、樓梯電梯區、設備吊裝區和通行區，將氚濃度高的功能區布置在氚工廠內側，將氚濃度低的功能區布置在外側。本發明提供氚工廠布置結構簡單，布局合理，不僅提高輻射防護效果，滿足商用核電站的需求，還可提高核電站的空間利用率。

本發明授權一種托卡馬克磁約束聚變電站的氚工廠布置結構在權利要求書中公布了：1.一種托卡馬克磁約束聚變電站的氚工廠布置結構，其特征在于，所述氚工廠的上方緊鄰托卡馬克主機廠房，右側緊鄰熱室；按功能劃分，所述氚工廠包括機械貫穿區（1）、內燃料循環系統設備區（2）、外燃料循環系統設備區（3）、水去氚化系統設備區（4）、通風除氚系統設備區（5）、綜合布置區（6）、樓梯電梯區（7）、設備吊裝區（8）和通行區（9）；所述機械貫穿區（1）是所述氚工廠與主機廠房的接口區域，位于靠近主機廠房的一側，其內布置有內燃料循環系統、外燃料循環系統和裝卸料系統的放射性機械貫穿件；所述內燃料循環系統設備區（2）位于靠近主機廠房一側，并與所述機械貫穿區（1）的左側和下側相鄰，主要用于布置內燃料循環系統相關物項，所述內燃料循環系統設備區（2）內布置有托卡馬克等離子體排灰氣處理系統、內循環氫同位素分離系統、燃料儲存與供給系統及分析系統相關物項；所述外燃料循環系統設備區（3）位于所述氚工廠的中心，并與所述內燃料循環系統設備區（2）、所述水去氚化設備區（4）和所述通風除氚設備區（5）相鄰，主要用于布置外燃料循環系統相關物項，所述外燃料循環系統的主要任務是提取和回收包層中增殖的氚，用于彌補氚的燃耗、衰變和非放射性損失，從而實現氚燃料自持；所述外燃料循環系統設備區（3）內布置有包層氚提取系統、氦冷卻劑凈化系統、水冷卻劑凈化系統及外循環氫同位素分離系統相關物項；基于輻射防護需求，氚濃度高的功能區布置在所述氚工廠內側，氚濃度低的功能區布置在所述氚工廠外側；所述氚工廠具有地下三層和地上四層，地下三層主要布置WCPS水冷卻劑凈化系統、WDS水去氚化系統和綜合管廊，WCPS位于外燃料循環系統設備區3內靠近內燃料循環系統設備區2的下側，WDS位于水去氚化系統設備區4內；地下二層主要布置HCPS氦冷卻劑凈化系統、WDS水去氚化系統、WCPS水冷卻劑凈化系統、TEP等離子體排灰氣處理系統、ANS分析系統；HCPS位于外燃料循環系統設備區3緊鄰內燃料循環系統設備區2的下側，TEP位于外燃料循環系統設備區3緊鄰熱室的一側，ANS位于內燃料循環系統設備區2靠近TEP的一側，WDS位于水去氚化系統設備區4內，WCPS位于通風除氚系統設備區5內；地下一層主要布置HCPS氦冷卻劑凈化系統、WCPS水冷卻劑凈化系統、TEP等離子體排灰氣處理系統、ANS分析系統、GDS手套箱氣氛除氚系統和ACS中央控制系統；HCPS、WCPS、TEP、ANS的位置和地下二層保持一致，GDS布置在綜合布置區6內靠近手套箱系統；ACS布置在水去氚化系統設備區4內；地上一層主要布置WDS水去氚化系統、WCPS水冷卻劑凈化系統、ISS-I氫同位素分離系統、ISS-O外循環氫同位素分離系統、SDS燃料貯存與供給系統和GDS手套箱氣氛除氚系統；WDS位于水去氚化系統設備區4內，WCPS、GDS的位置和地下一層保持一致；SDS位于內燃料循環系統設備區2緊鄰機械貫穿區1的下側，ISS-I位于外燃料循環系統設備區3緊鄰熱室的一側，ISS-O位于外燃料循環系統設備區3緊鄰SDS的下側；地上二層主要布置ISS-I氫同位素分離系統、ISS-O外循環氫同位素分離系統、WDS水去氚化系統、WCPS水冷卻劑凈化系統和LTS氚長期貯存系統，ISS-I、ISS-O、WDS的位置和地上一層保持一致，LTS位于內燃料循環系統設備區2靠近ISS-I、ISS-O的位置，WCPS位于通風除氚系統設備區5內靠近WDS的一側；地上三層主要布置TES包層氚提取系統、ISS-I氫同位素分離系統、ISS-O外循環氫同位素分離系統、WDS水去氚化系統、WCPS水冷卻劑凈化系統、VDS排放氣體除氚系統和ADS空氣氣氛除氚系統；TES布置在機械貫穿區1和內燃料循環系統設備區2，ISS-I、ISS-O、WCPS的位置和地上二層保持一致，WDS位于水去氚化系統設備區4內靠近ISS-I的一端，ADS位于水去氚化系統設備區4內的另一端，VDS位于通風除氚系統設備區5內靠近設備吊裝區8的一側；地上四層主要布置ISS-I氫同位素分離系統、ISS-O外循環氫同位素分離系統、WCPS水冷卻劑凈化系統和VDS排放氣體除氚系統，ISS-I、ISS-O、WCPS、VDS的位置和地上三層保持一致。

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