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龍圖騰網恭喜中國科學院光電技術研究所申請的專利一種表面改性的襯底保持器及其制備方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115527847B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-06發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202211219961.2，技術領域涉及：H01L21/304；該發明授權一種表面改性的襯底保持器及其制備方法是由羅先剛;張逸云;趙承偉;龔天誠;張文豪設計研發完成，并于2022-09-30向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種表面改性的襯底保持器及其制備方法在說明書摘要公布了：本公開提供了一種表面改性的襯底保持器及其制備方法，該制備方法包括：S1，在粗拋光后的基板上沉積改性層，改性層為易于刻蝕的材料；S2，對改性層進行精拋光，精拋光達到的平面度大于粗拋光達到的平面度；S3，在精拋光后的改性層上形成耐磨層；S4，在耐磨層上形成光刻膠層，對光刻膠層進行曝光、顯影，得到第一圖形結構；S5，在顯影后的光刻膠層上生長金屬掩模層，再剝離去除光刻膠層，在金屬掩模層中得到第二圖形結構；S6，采用反應離子刻蝕將第二圖形結構轉移至改性層中，去除金屬掩模層，得到表面改性的襯底保持器。本公開的方法能夠簡單高效地加工出高精度的襯底保持器，滿足高制程加工的需求。

本發明授權一種表面改性的襯底保持器及其制備方法在權利要求書中公布了：1.一種表面改性的襯底保持器的制備方法，其特征在于，包括：S1，在粗拋光后的基板25上沉積改性層26，所述改性層26為易于刻蝕的材料；S2，對所述改性層26進行精拋光，所述精拋光達到的平面度大于所述粗拋光達到的平面度；S3，在精拋光后的所述改性層26上形成耐磨層27；S4，在所述耐磨層27上形成光刻膠層28，對所述光刻膠層28進行曝光、顯影，得到第一圖形結構；S5，在顯影后的所述光刻膠層28上生長金屬掩模層29，再剝離去除所述光刻膠層28，在所述金屬掩模層29中得到第二圖形結構；S6，采用反應離子刻蝕將所述第二圖形結構轉移至所述改性層26中，去除所述金屬掩模層29，得到表面改性的襯底保持器。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人中國科學院光電技術研究所，其通訊地址為：610209 四川省成都市雙流350信箱；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。