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恭喜三星電子株式會社安在昊獲國家專利權

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龍圖騰網恭喜三星電子株式會社申請的專利集成電路裝置及其制造方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN111952305B

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-29發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202010135776.X,技術領域涉及:H10B41/00;該發明授權集成電路裝置及其制造方法是由安在昊;梁宇成;任峻成;黃盛珉設計研發完成,并于2020-03-02向國家知識產權局提交的專利申請。

集成電路裝置及其制造方法在說明書摘要公布了:提供了一種集成電路裝置及其制造方法。該集成電路裝置包括:下存儲器堆疊件,其包括位于襯底上的多條下字線;上存儲器堆疊件,其位于下存儲器堆疊件上并且包括多條上字線;至少一個第一下互連層,其在下存儲器堆疊件與上存儲器堆疊件之間在第一豎直高度在水平方向上延伸,并且被構造為電連接至從所述多條下字線中選擇的至少一條下字線;分離的絕緣膜,其覆蓋至少一個第一下互連層;以及至少一個第一上互連層,其在高于上存儲器堆疊件的第二豎直高度在水平方向上延伸,并且被構造為電連接至從上字線中選擇的至少一條上字線。

本發明授權集成電路裝置及其制造方法在權利要求書中公布了:1.一種集成電路裝置,包括:襯底,其包括存儲器單元區和連接區;下存儲器堆疊件,其包括位于所述存儲器單元區和所述連接區上的多條下字線,所述多條下字線在與所述襯底的主表面平行的水平方向上延伸,所述多條下字線在豎直方向上彼此疊置;上存儲器堆疊件,其位于所述下存儲器堆疊件上,所述上存儲器堆疊件包括在所述豎直方向上彼此疊置的多條上字線;至少一個第一下互連層,所述至少一個第一下互連層在所述連接區上在所述下存儲器堆疊件與所述上存儲器堆疊件之間位于第一豎直高度處,所述至少一個第一下互連層在所述水平方向上延伸,并且被構造為電連接至從所述多條下字線中選擇的至少一條下字線;分離的絕緣膜,其覆蓋所述至少一個第一下互連層,使得所述至少一個第一下互連層的上表面不接觸所述連接區上的其它導體;以及至少一個第一上互連層,其在所述連接區上位于高于所述上存儲器堆疊件的第二豎直高度處,所述至少一個第一上互連層在所述水平方向上延伸,所述至少一個第一上互連層被構造為電連接至從所述多條上字線中選擇的至少一條上字線。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人三星電子株式會社,其通訊地址為:韓國京畿道;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。

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