恭喜廣東中圖半導體科技股份有限公司張劍橋獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜廣東中圖半導體科技股份有限公司申請的專利一種圖形化復合襯底、LED外延片及其制備方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113889557B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202010636320.1，技術領域涉及：H10H20/82；該發明授權一種圖形化復合襯底、LED外延片及其制備方法是由張劍橋;吳偉;康凱;肖桂明;楊錘設計研發完成，并于2020-07-03向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種圖形化復合襯底、LED外延片及其制備方法在說明書摘要公布了：本發明實施例公開了一種圖形化復合襯底、LED外延片及其制備方法。該圖形化復合襯底包括襯底基板、位于所述襯底基板上的多個復合微結構，所述復合微結構包括上下層疊的異質層和襯底層，所述襯底層與所述襯底基板為一體結構；所述襯底層與所述異質層相交界的表面設置有至少一個凹洞和或至少一個凸起，所述異質層與所述襯底層構成復合微結構凸起。本發明實施例解決了現有圖形化復合襯底內量子效率和光提取效率仍較低的問題，一方面能夠改善外延材料的晶體質量，提升內量子效率，另一方面可以增大光反射角，提升光的提取效率，有助于改善對應制備的LED芯片的出光效率。
本發明授權一種圖形化復合襯底、LED外延片及其制備方法在權利要求書中公布了：1.一種圖形化復合襯底的制備方法，其特征在于，包括：提供一襯底基板，并在所述襯底基板上進行圖形化，形成至少一個凹洞和或至少一個凸起；在所述襯底基板上形成異質層；對所述異質層以及所述襯底基板進行圖形化，形成多個復合微結構；其中，所述復合微結構包括上下層疊的異質層和襯底層，所述襯底層與所述襯底基板為一體結構；所述至少一個凹洞和或至少一個凸起位于所述襯底層與所述異質層相交界的表面，所述異質層與所述襯底層構成復合微結構凸起。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人廣東中圖半導體科技股份有限公司，其通訊地址為：523000 廣東省東莞市松山湖高新技術產業開發區工業北二路4號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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