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龍圖騰網(wǎng)恭喜廣東中圖半導(dǎo)體科技股份有限公司申請的專利一種圖形化復(fù)合襯底、LED外延片及其制備方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN113889557B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-29發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202010636320.1，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H10H20/82；該發(fā)明授權(quán)一種圖形化復(fù)合襯底、LED外延片及其制備方法是由張劍橋;吳偉;康凱;肖桂明;楊錘設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-07-03向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種圖形化復(fù)合襯底、LED外延片及其制備方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明實(shí)施例公開了一種圖形化復(fù)合襯底、LED外延片及其制備方法。該圖形化復(fù)合襯底包括襯底基板、位于所述襯底基板上的多個(gè)復(fù)合微結(jié)構(gòu)，所述復(fù)合微結(jié)構(gòu)包括上下層疊的異質(zhì)層和襯底層，所述襯底層與所述襯底基板為一體結(jié)構(gòu)；所述襯底層與所述異質(zhì)層相交界的表面設(shè)置有至少一個(gè)凹洞和或至少一個(gè)凸起，所述異質(zhì)層與所述襯底層構(gòu)成復(fù)合微結(jié)構(gòu)凸起。本發(fā)明實(shí)施例解決了現(xiàn)有圖形化復(fù)合襯底內(nèi)量子效率和光提取效率仍較低的問題，一方面能夠改善外延材料的晶體質(zhì)量，提升內(nèi)量子效率，另一方面可以增大光反射角，提升光的提取效率，有助于改善對應(yīng)制備的LED芯片的出光效率。

本發(fā)明授權(quán)一種圖形化復(fù)合襯底、LED外延片及其制備方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種圖形化復(fù)合襯底的制備方法，其特征在于，包括：提供一襯底基板，并在所述襯底基板上進(jìn)行圖形化，形成至少一個(gè)凹洞和或至少一個(gè)凸起；在所述襯底基板上形成異質(zhì)層；對所述異質(zhì)層以及所述襯底基板進(jìn)行圖形化，形成多個(gè)復(fù)合微結(jié)構(gòu)；其中，所述復(fù)合微結(jié)構(gòu)包括上下層疊的異質(zhì)層和襯底層，所述襯底層與所述襯底基板為一體結(jié)構(gòu)；所述至少一個(gè)凹洞和或至少一個(gè)凸起位于所述襯底層與所述異質(zhì)層相交界的表面，所述異質(zhì)層與所述襯底層構(gòu)成復(fù)合微結(jié)構(gòu)凸起。

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