恭喜奧比中光科技集團股份有限公司蘭富洋獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜奧比中光科技集團股份有限公司申請的專利一種圖像的校正方法及及屏下系統獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115131215B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-29發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202110315005.3,技術領域涉及:H04N23/81;該發明授權一種圖像的校正方法及及屏下系統是由蘭富洋;楊鵬;王兆民;黃源浩;肖振中設計研發完成,并于2021-03-24向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種圖像的校正方法及及屏下系統在說明書摘要公布了:本申請適用于圖像處理的技術領域,提供一種干涉條紋的校正方法及屏下系統,所述校正方法包括:獲取不同拍攝距離的干涉條紋圖像;獲取待校正圖像,并計算所述待校正圖像中每個待校正像素點的深度值;在所述不同拍攝距離的干涉條紋圖像中,選擇所述每個待校正像素點的深度值對應的干涉條紋圖像,作為所述每個待校正像素點對應的目標干涉條紋圖像;提取所述目標干涉條紋圖像中目標坐標位置的第一像素值;根據所述每個待校正像素點對應的第一像素值,校正所述每個待校正像素點的第二像素值,得到校正后的圖像。上述方案,通過針對逐個待校正像素分別進行校正的方式,減弱了干涉條紋導致采集的圖像質量較差的問題。
本發明授權一種圖像的校正方法及及屏下系統在權利要求書中公布了:1.一種干涉條紋的校正方法,其特征在于,所述校正方法,包括:獲取不同拍攝距離的干涉條紋圖像;所述干涉條紋圖像是指照明光源透過顯示屏照射在目標平面上形成干涉條紋,并由采集模組采集而得的圖像;所述干涉條紋圖像用于反映干涉條紋在不同坐標位置的第一像素值;獲取待校正圖像,并計算所述待校正圖像中每個待校正像素點的深度值;在所述不同拍攝距離的干涉條紋圖像中,選擇所述每個待校正像素點的深度值對應的干涉條紋圖像,作為所述每個待校正像素點對應的目標干涉條紋圖像;提取所述目標干涉條紋圖像中目標坐標位置的第一像素值;所述目標坐標位置是指所述目標干涉條紋圖像對應的待校正像素點在所述待校正圖像中所處的坐標位置;根據所述每個待校正像素點對應的第一像素值,校正所述每個待校正像素點的第二像素值,得到校正后的圖像,包括:獲取所有所述第一像素值中的最大第一像素值;將每個所述第一像素值除以所述最大第一像素值,得到所述每個待校正像素點對應的第一校正參數;針對所述每個待校正像素點分別執行如下步驟,得到校正后的圖像:若待校正像素點對應目標干涉條紋圖像的拍攝距離與該待校正像素點的深度值不相等,則將所述第一校正參數代入第一預設公式,得到第二校正參數;所述第一預設公式如下: 其中,Ia表示所述第一校正參數,Ib表示所述第二校正參數,La表示待校正像素點對應目標干涉條紋圖像的拍攝距離,Lb表示待校正像素點的深度值;將該待校正像素點的第二像素值除以所述第二校正參數,得到校正后的圖像;若待校正像素點對應目標干涉條紋圖像的拍攝距離與該待校正像素點的深度值相等,則將該待校正像素點的第二像素值除以所述第一校正參數,得到校正后的圖像。
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