買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標(biāo)用IPTOP,全免費(fèi)！專利年費(fèi)監(jiān)控用IP管家,真方便！

龍圖騰網(wǎng)恭喜哈爾濱工業(yè)大學(xué)申請(qǐng)的專利一種不同粒子位移等效性計(jì)算方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN115146517B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-29發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202210778788.3，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G06F30/25；該發(fā)明授權(quán)一種不同粒子位移等效性計(jì)算方法是由李興冀;楊劍群;應(yīng)濤;崔秀海;李偉奇設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2022-06-30向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種不同粒子位移等效性計(jì)算方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供了一種不同粒子位移等效性計(jì)算方法，屬于空間環(huán)境分析技術(shù)領(lǐng)域。方法包括：S1、構(gòu)建幾何模型，選取輻射位移損傷敏感區(qū)，設(shè)置模擬參數(shù)，之后進(jìn)行模擬輻射實(shí)驗(yàn)；S2、調(diào)用Track函數(shù)和Step函數(shù)，計(jì)算得到所有步粒子的非電離能量沉積和入射方向坐標(biāo)；S3、判斷輸出步粒子的非電離能量沉積是否為零，如不為零，則輸出該步粒子的非電離能量沉積和入射方向坐標(biāo)數(shù)據(jù)；S4、將選定深度區(qū)間內(nèi)的輸出步粒子的數(shù)據(jù)進(jìn)行累加，計(jì)算得到沿入射方向的NIEL深度分布曲線，對(duì)NIEL深度分布曲線進(jìn)行歸一化處理。本發(fā)明基于Geant4軟件進(jìn)行模擬試驗(yàn)，根據(jù)判斷條件篩選出輸出步粒子的非電離能量沉積和入射方向坐標(biāo)數(shù)據(jù)，之后累加計(jì)算得到NIEL，可快速得到隨深度變化的NIEL分布。

本發(fā)明授權(quán)一種不同粒子位移等效性計(jì)算方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種不同粒子位移等效性計(jì)算方法，其特征在于，包括以下步驟：S1、向Geant4軟件中導(dǎo)入器件的幾何文件，構(gòu)建與所述器件結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)的幾何模型，選取輻射位移損傷敏感區(qū)，設(shè)置模擬參數(shù)，所述模擬參數(shù)包括輻射源參數(shù)和入射粒子與物質(zhì)相互作用模型，所述輻射源參數(shù)包括入射方向，之后進(jìn)行模擬輻射實(shí)驗(yàn)；S2、調(diào)用Track函數(shù)和Step函數(shù)，計(jì)算得到所有步粒子的非電離能量沉積和入射方向坐標(biāo)；S3、設(shè)置判斷條件，判斷輸出步粒子的所述非電離能量沉積是否為零，如不為零，則輸出該步粒子的所述非電離能量沉積和所述入射方向坐標(biāo)數(shù)據(jù)；S4、將選定深度區(qū)間內(nèi)的所述輸出步粒子的所述非電離能量沉積數(shù)據(jù)進(jìn)行累加，計(jì)算得到沿著所述入射方向的非電離能量損失深度分布曲線，對(duì)所述非電離能量損失深度分布曲線進(jìn)行歸一化處理。

如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人哈爾濱工業(yè)大學(xué)，其通訊地址為：150000 黑龍江省哈爾濱市南崗區(qū)西大直街92號(hào)；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。