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龍圖騰網(wǎng)恭喜安徽禾臣新材料有限公司申請(qǐng)的專利一種紅外非球面光學(xué)零件拋光用的阻尼布及其制備工藝獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN115609497B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-29發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202211338145.3，技術(shù)領(lǐng)域涉及：B24D11/00；該發(fā)明授權(quán)一種紅外非球面光學(xué)零件拋光用的阻尼布及其制備工藝是由李加海;楊慧明;李元祥設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2022-10-28向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種紅外非球面光學(xué)零件拋光用的阻尼布及其制備工藝在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本發(fā)明公開(kāi)了一種紅外非球面光學(xué)零件拋光用的阻尼布及其制備工藝，涉及阻尼布技術(shù)領(lǐng)域。一種紅外非球面光學(xué)零件拋光用的阻尼布，包括阻尼布面層、熱熔膠層和阻尼布基層，所述阻尼布面層通過(guò)熱熔膠層與阻尼布基層連接，阻尼布面層上開(kāi)設(shè)有形變槽和排泄溝，形變槽的下端與排泄溝的上端連通，形變槽將阻尼布面層的上表面分隔成陣列分布的磨料塊。本發(fā)明提出的一種紅外非球面光學(xué)零件拋光用的阻尼布及其制備工藝，通過(guò)在阻尼布面層表面開(kāi)設(shè)形變槽和排泄溝，以及在阻尼布基層上設(shè)置有形變孔，為阻尼布面層和阻尼布基層彎曲時(shí)，實(shí)現(xiàn)形變空間，防止阻尼布面層表面出現(xiàn)褶皺，避免在拋光時(shí)對(duì)紅外非球面光學(xué)零件造成劃傷。

本發(fā)明授權(quán)一種紅外非球面光學(xué)零件拋光用的阻尼布及其制備工藝在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種紅外非球面光學(xué)零件拋光用的阻尼布，包括阻尼布面層1、熱熔膠層2和阻尼布基層3，其特征在于：所述阻尼布面層1通過(guò)熱熔膠層2與阻尼布基層3連接，阻尼布面層1上開(kāi)設(shè)有形變槽11和排泄溝12，形變槽11的下端與排泄溝12的上端連通，形變槽11將阻尼布面層1的上表面分隔成陣列分布的磨料塊13，磨料塊13的內(nèi)部開(kāi)設(shè)有內(nèi)凹槽131；所述阻尼布基層3上陣列分布有形變孔31，形變孔31貫穿熱熔膠層2，與內(nèi)凹槽131連通，所述內(nèi)凹槽131包括上弧面1311、下弧面1312和側(cè)弧面1313，上弧面1311與下弧面1312的邊緣通過(guò)側(cè)弧面1313連接，上弧面1311和下弧面1312均向形變孔31方向凸起。

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