恭喜東莞領(lǐng)航電子新材料有限公司陳湛獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜東莞領(lǐng)航電子新材料有限公司申請(qǐng)的專利一種碳化硅拋光組合物及其拋光方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN119220183B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-18發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202411353343.6，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C09G1/02；該發(fā)明授權(quán)一種碳化硅拋光組合物及其拋光方法是由陳湛;楊勍設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2024-09-26向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本一種碳化硅拋光組合物及其拋光方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及碳化硅拋光的技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種碳化硅拋光組合物及其拋光方法。所述拋光組合物包含以下組分：金紅石型二氧化鈦；高錳酸鹽；鈣離子；水；所述拋光組合物的pH值大于2且小于13。碳化硅拋光方法為：提供待拋光的碳化硅表面，在該碳化硅表面和拋光工具的拋光面之間引入上述的拋光組合物，并使該碳化硅表面與拋光工具的拋光面接觸并相對(duì)移動(dòng)。本申請(qǐng)的碳化硅拋光組合物可用于拋光碳化硅，其具有在弱酸性或堿性條件下對(duì)碳化硅拋光速率快優(yōu)點(diǎn)。
本發(fā)明授權(quán)一種碳化硅拋光組合物及其拋光方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種碳化硅拋光組合物，其特征在于，所述拋光組合物包含以下組分：重量百分比為0.5-5％的金紅石型二氧化鈦；重量百分比為4-6％的高錳酸鹽；濃度范圍為20-90毫摩爾每升的鈣離子；余量為水；所述拋光組合物的pH值在3到12之間。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人東莞領(lǐng)航電子新材料有限公司，其通訊地址為：523000 廣東省東莞市大嶺山鎮(zhèn)大環(huán)路1號(hào)2棟；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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2、報(bào)告中的分析和結(jié)論僅反映本公司于發(fā)布本報(bào)告當(dāng)日的職業(yè)理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔(dān)任何法律責(zé)任的依據(jù)或者憑證。
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