買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標用IPTOP,全免費！專利年費監控用IP管家,真方便！

龍圖騰網恭喜深圳市新凱來工業機器有限公司申請的專利半導體工藝腔室和半導體工藝設備獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119297121B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-18發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202411634748.7，技術領域涉及：H01L21/67；該發明授權半導體工藝腔室和半導體工藝設備是由吳敏;孫思強;王劍偉;廖偉至設計研發完成，并于2024-11-15向國家知識產權局提交的專利申請。

本半導體工藝腔室和半導體工藝設備在說明書摘要公布了：本申請提供了一種半導體工藝腔室和半導體工藝設備，半導體工藝腔室包括腔室和氣體注射器；腔室的腔壁圍成內腔，腔壁設有第一通道，第一通道具有第一開口，第一通道通過第一開口與內腔連通，第一通道的表面包括第一表面，第一表面朝向第一開口；氣體注射器包括連接部分，連接部分與腔室連接并位于第一通道內；氣體注射器具有氣體流道，氣體流道貫通連接部分的表面并形成出氣口，氣體流道通過出氣口與第一通道連通，出氣口與第一表面相對并具有間距。該半導體工藝設備，包括氣源和該半導體工藝腔室，氣源與氣體注射器背離腔室的一端連接。本申請通過在腔室的腔壁設置預混合通道，能夠對工藝氣體進行充分的預混合，從而提升了物料加工精度。

本發明授權半導體工藝腔室和半導體工藝設備在權利要求書中公布了：1.一種半導體工藝腔室，其特征在于，包括腔室和氣體注射器，所述腔室具有周向；所述腔室的腔壁圍成內腔，所述腔壁設有第一通道，所述第一通道沿所述周向延伸，且呈帶狀分布，所述第一通道具有第一開口，所述第一通道通過所述第一開口與所述內腔連通，所述第一通道的表面包括第一表面和第二表面，所述第一表面為弧面，且朝向所述第一開口；所述第二表面包括第一邊與第二邊，所述第一邊與所述第二邊相對，所述第一邊作為所述第一開口的一部分，所述第二邊為所述第二表面與所述第一表面的公共邊，所述第二表面沿所述第一邊到所述第二邊的方向朝所述腔室外傾斜延伸；所述氣體注射器包括連接部分，所述連接部分與所述腔室連接并位于所述第一通道內；所述氣體注射器具有多個氣體流道，一個所述氣體流道貫通所述連接部分的表面并形成一個出氣口，所述多個氣體流道通過多個所述出氣口均與所述第一通道連通，所述出氣口與所述第一表面相對并具有間距。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人深圳市新凱來工業機器有限公司，其通訊地址為：518111 廣東省深圳市龍崗區平湖街道山廈社區中環大道中科谷產業園6棟1301；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。