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龍圖騰網獲悉無錫興華衡輝科技有限公司申請的專利一種應用于半導體芯片生產的浸蝕裝置及方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119297125B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-18發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202411815798.5，技術領域涉及：H01L21/67；該發明授權一種應用于半導體芯片生產的浸蝕裝置及方法是由肖鈺;牟宏山;張新宇;高一楓設計研發完成，并于2024-12-11向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種應用于半導體芯片生產的浸蝕裝置及方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種應用于半導體芯片生產的浸蝕裝置及方法，涉及芯片生產相關技術領域。本發明包括底座，底座頂部設置有浸蝕箱，浸蝕箱左側設置有光刻膠組件，且光刻膠組件右側開設有若干傾斜分布的注入孔，浸蝕箱外壁對稱設置有若干限位桿，若干限位桿外壁設置有密封板，浸蝕箱內壁底部邊角處均設置有伸縮桿。本發明借助光刻膠與浸蝕液混合后，提升芯片浸蝕過程中光刻分辨率，從而提升半導體芯片的浸蝕清晰度從而提升浸蝕品質，同時在U形管組件不斷運動過程中，有效改變浸蝕箱內部右側浸蝕液上下壓強差，縮短芯片全面浸蝕的所需時長，提升浸蝕效率。

本發明授權一種應用于半導體芯片生產的浸蝕裝置及方法在權利要求書中公布了：1.一種應用于半導體芯片生產的浸蝕裝置，包括底座（1），其特征在于：所述底座（1）頂部設置有浸蝕箱（2），所述浸蝕箱（2）左側設置有光刻膠組件（21），且光刻膠組件（21）右側開設有若干傾斜分布的注入孔，所述浸蝕箱（2）外壁對稱設置有若干限位桿（22），若干所述限位桿（22）外壁設置有密封板（23），所述浸蝕箱（2）內壁底部邊角處均設置有伸縮桿（3），所述伸縮桿（3）伸縮端頂部固定安裝在密封板（23）底部，所述伸縮桿（3）伸縮端外壁設置有濾孔框（31），所述浸蝕箱（2）內部設置有分隔板（32），且分隔板（32）內部開設有液位槽；所述浸蝕箱（2）內部左側設置有防模糊裝置（4），所述防模糊裝置（4）上方設置有防居中裝置（5），所述防居中裝置（5）下方設置有防殘留裝置（6）；所述防模糊裝置（4）包括電動轉桿（41），所述電動轉桿（41）底部轉動安裝在浸蝕箱（2）內壁底部左側，所述電動轉桿（41）外壁開設有往復螺旋槽，所述電動轉桿（41）外壁下部固定安裝有若干擾流板（42），所述電動轉桿（41）往復螺旋槽外壁貫穿且活動安裝有滑動板（43），所述滑動板（43）內部貫穿且對稱固定安裝有兩個U形管組件（44），所述U形管組件（44）外壁設置有循環泵（45），所述滑動板（43）頂部固定安裝有豎桿（46），所述豎桿（46）頂部固定安裝有濾板（47），所述濾板（47）左側開設有U形槽，所述濾板（47）的U形槽內部轉動安裝有傳動輥（48）；所述防居中裝置（5）包括絲桿（51）、連桿滑塊（52）、L形板（53）、圓桿（54）和刷動板（55）和導向板（56），所述絲桿（51）兩端均固定安裝在傳動輥（48）靠近濾板（47）軸心一側，所述連桿滑塊（52）內部貫穿且螺紋連接在絲桿（51）外壁，所述L形板（53）左端底部固定在連桿滑塊（52）頂部，所述L形板（53）內部開設有方形槽，所述圓桿（54）兩端均固定安裝在L形板（53）方形槽內部，所述刷動板（55）內部通過扭簧貫穿且鉸接在圓桿（54）外壁處，所述導向板（56）頂部鉸接在刷動板（55）外壁處；所述防殘留裝置（6）包括橫板（61）、波浪板（62）、滑動框架（63）、傳動桿（64）和摩擦輥（65），所述橫板（61）頂部固定安裝在U形板（57）底部，所述波浪板（62）頂部固定安裝在橫板（61）左端底部，所述滑動框架（63）底部固定安裝在橫板（61）頂部右側，所述傳動桿（64）兩端均轉動安裝在滑動框架（63）內部，所述摩擦輥（65）內部貫穿且固定安裝在傳動桿（64）外壁處。

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