恭喜西安電子科技大學方厚章獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜西安電子科技大學申請的專利一種聯合紅外非均勻偏差場校正的無人機檢測方法及系統獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN119380001B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-18發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202411926334.1,技術領域涉及:G06V10/25;該發明授權一種聯合紅外非均勻偏差場校正的無人機檢測方法及系統是由方厚章;王嘯林;王徐華設計研發完成,并于2024-12-25向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種聯合紅外非均勻偏差場校正的無人機檢測方法及系統在說明書摘要公布了:本發明公開了一種聯合紅外非均勻偏差場校正的無人機檢測方法,屬于退化圖像目標檢測領域,方法包括:獲取退化紅外圖像;將退化紅外圖像輸入紅外圖像非均勻校正與無人機檢測統一框架進行非均勻校正與無人機目標檢測,輸出無人機目標檢測結果;紅外圖像非均勻校正與無人機檢測統一框架包括偏差場校正模塊和無人機目標檢測模塊,偏差場校正模塊包括偏差場預測網絡和偏差場清除結構;將退化紅外圖像輸入偏差場校正模塊,經過偏差場預測網絡進行偏差場預測生成預測偏差場,將預測偏差場與退化紅外圖像輸入偏差場清除結構清除退化紅外圖像中的預測偏差場得到校正圖像;將校正圖像傳輸到無人機目標檢測模塊進行無人機識別得到校正圖像中的無人機目標。
本發明授權一種聯合紅外非均勻偏差場校正的無人機檢測方法及系統在權利要求書中公布了:1.一種聯合紅外非均勻偏差場校正的無人機檢測方法,其特征在于,包括以下步驟:獲取退化紅外圖像,將退化紅外圖像輸入紅外圖像非均勻校正與無人機檢測統一框架進行非均勻校正與無人機目標檢測,輸出無人機目標檢測結果;所述統一框架包括偏差場校正模塊和無人機目標檢測模塊;偏差場校正模塊包括偏差場預測網絡和偏差場清除結構,偏差場預測網絡包括下采樣、全局與局部特征編碼器、卷積、全連接和偏差場預測模型;無人機目標檢測模塊包括損失優化,損失優化包括目標增強與背景抑制損失和偏置魯棒損失;目標增強與背景抑制損失的計算公式為: 其中,為交叉熵損失,為背景框的二進制掩碼,為圖像橫坐標,為圖像縱坐標;將退化紅外圖像輸入統一框架進行非均勻校正與無人機目標檢測,包括:將退化紅外圖像輸入偏差場校正模塊,經過偏差場預測網絡進行偏差場預測生成預測偏差場,包括:對退化紅外圖像進行下采樣得到下采樣退化紅外圖像,將下采樣退化紅外圖像輸入全局與局部特征編碼器進行特征提取,全局與局部特征編碼器包括全局編碼器和局部編碼器,獲取退化紅外圖像的非均勻性特征;將退化紅外圖像的非均勻性特征輸入卷積進行卷積操作后,輸入全連接層進行全連接操作,得到整合估計特征;將整合估計特征輸入偏差場預測模型進行偏差場預測,得到預測偏差場;所述全局編碼器提取下采樣退化紅外圖像的全局非均勻性特征,所述局部編碼器提取下采樣退化紅外圖像的局部非均勻性特征,所述下采樣退化紅外圖像的全局非均勻性特征與下采樣退化紅外圖像的局部非均勻性特征融合后得到退化紅外圖像的非均勻性特征;將預測偏差場與退化紅外圖像輸入偏差場清除結構清除退化紅外圖像中的預測偏差場得到校正圖像;將校正圖像傳輸到無人機目標檢測模塊進行無人機識別得到校正圖像中的無人機目標。
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