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龍圖騰網(wǎng)恭喜攜程計(jì)算機(jī)技術(shù)(上海)有限公司申請(qǐng)的專利水印檢測模型訓(xùn)練方法、水印檢測方法、系統(tǒng)、設(shè)備及介質(zhì)獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN112232431B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-15發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202011149325.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G06V10/774；該發(fā)明授權(quán)水印檢測模型訓(xùn)練方法、水印檢測方法、系統(tǒng)、設(shè)備及介質(zhì)是由成丹妮;羅超;吉聰睿;李巍;胡泓設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-10-23向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本水印檢測模型訓(xùn)練方法、水印檢測方法、系統(tǒng)、設(shè)備及介質(zhì)在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種水印檢測模型訓(xùn)練方法、水印檢測方法、系統(tǒng)、設(shè)備及介質(zhì)，該訓(xùn)練方法包括：獲取樣本數(shù)據(jù)集，樣本數(shù)據(jù)集包含若干帶水印的訓(xùn)練圖像；對(duì)樣本數(shù)據(jù)集的每個(gè)訓(xùn)練圖像中水印區(qū)域的輪廓進(jìn)行標(biāo)注；根據(jù)標(biāo)注后的樣本數(shù)據(jù)集，對(duì)水印檢測模型進(jìn)行訓(xùn)練；其中，水印檢測模型用于提取輸入圖像的特征圖，而后獲取特征圖中每個(gè)特征點(diǎn)是否為水印中心點(diǎn)的概率，并在某個(gè)特征點(diǎn)為水印中心點(diǎn)的概率大于預(yù)定值時(shí)，獲取該特征點(diǎn)映射到所述輸入圖像中的位置與該特征點(diǎn)對(duì)應(yīng)的真實(shí)水印中心點(diǎn)之間的偏移量、以及該特征點(diǎn)對(duì)應(yīng)的水印尺寸。本發(fā)明能夠訓(xùn)練得到準(zhǔn)確的水印檢測模型，從而解決了通過人工審核的方式，難以實(shí)現(xiàn)對(duì)帶水印圖像的準(zhǔn)確識(shí)別的技術(shù)問題。

本發(fā)明授權(quán)水印檢測模型訓(xùn)練方法、水印檢測方法、系統(tǒng)、設(shè)備及介質(zhì)在權(quán)利要求書中公布了：1.一種水印檢測模型訓(xùn)練方法，其特征在于，包括：獲取樣本數(shù)據(jù)集，所述樣本數(shù)據(jù)集包含若干帶水印的訓(xùn)練圖像；對(duì)所述樣本數(shù)據(jù)集的每個(gè)訓(xùn)練圖像中水印區(qū)域的輪廓進(jìn)行標(biāo)注；根據(jù)標(biāo)注后的樣本數(shù)據(jù)集，對(duì)水印檢測模型進(jìn)行訓(xùn)練，得到目標(biāo)水印檢測模型；其中，所述水印檢測模型用于提取輸入圖像的特征圖，而后獲取所述特征圖中每個(gè)特征點(diǎn)是否為水印中心點(diǎn)的概率，并在某個(gè)特征點(diǎn)為水印中心點(diǎn)的概率大于預(yù)定值時(shí)，獲取該特征點(diǎn)映射到所述輸入圖像中的位置與該特征點(diǎn)對(duì)應(yīng)的真實(shí)水印中心點(diǎn)之間的偏移量、以及該特征點(diǎn)對(duì)應(yīng)的水印尺寸；其中，所述特征圖為所述輸入圖像的降采樣圖像；所述水印檢測模型采用全卷積網(wǎng)絡(luò)，所述全卷積網(wǎng)絡(luò)包含六個(gè)對(duì)稱殘差模塊，還包括連接至第一個(gè)殘差塊輸入端的BN-Relu-Conv2層，以及連接在第三個(gè)與第四個(gè)殘差塊之間的BN-Relu-Conv層，并且第一個(gè)殘差塊與第六個(gè)殘差塊對(duì)稱跳躍連接，第二個(gè)殘差塊與第五個(gè)殘差塊對(duì)稱跳躍連接，第三個(gè)殘差塊與第四個(gè)殘差塊對(duì)稱跳躍連接。

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