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龍圖騰網(wǎng)恭喜江蘇魯汶儀器股份有限公司申請的專利一種樣品托盤及其使用方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN115376875B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-15發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202110547638.7，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01J37/32；該發(fā)明授權(quán)一種樣品托盤及其使用方法是由鄒榮園;鄒志文;崔虎山;劉朋飛;范思大;丁光輝;丁曉林;許開東設(shè)計研發(fā)完成，并于2021-05-19向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種樣品托盤及其使用方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種樣品托盤及其使用方法，該托盤包括具有腔室的托盤本體，所述腔室通過進(jìn)氣孔、排氣孔與外部連通，所述進(jìn)氣孔的出氣端朝向所述排氣孔的設(shè)置，所述進(jìn)氣孔靠近所述排氣孔一端的截面積大于所述排氣孔遠(yuǎn)離所述進(jìn)氣孔一端的截面積。使用時，在所述托盤上加入樣品，將所述托盤置于勻氣盤和載片臺之間，并將進(jìn)氣孔與載片臺上的氣孔連接，通入惰性氣體后即可進(jìn)行刻蝕或沉積作業(yè)。本發(fā)明基于伯努利原理，設(shè)計了可以與外界形成壓差的中空托盤，通氣后利用壓差吸住樣品，減少了樣品的壓片裝置、元件的使用，并通過惰性氣體的流動實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)控溫，從而提高了刻蝕效果的均勻性、整體性。

本發(fā)明授權(quán)一種樣品托盤及其使用方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種樣品托盤，其特征在于：包括具有腔室（M）的托盤本體（3），所述托盤本體（3）上設(shè)有進(jìn)氣孔（21）、排氣孔（22）和通孔（111），所述腔室（M）通過所述進(jìn)氣孔（21）、所述排氣孔（22）和所述通孔（111）與外部連通，所述進(jìn)氣孔（21）的出氣端朝向所述排氣孔（22）的方向設(shè)置，所述通孔（111）設(shè)置在所述托盤本體（3）的樣品接觸面上；所述進(jìn)氣孔（21）靠近所述排氣孔（22）一端的垂直于所述進(jìn)氣孔（21）軸向的截面積為S1，所述排氣孔（22）遠(yuǎn)離所述進(jìn)氣孔（21）一端的垂直于所述排氣孔（22）軸向的截面積為S2，其中S1大于S2，以使所述樣品上的外部壓強(qiáng)大于所述通孔（111）處壓強(qiáng)；所述托盤本體（3）包括相互連接的第一盤（1）和第二盤（2），所述第一盤（1）和所述第二盤（2）共同限定出所述腔室（M）,所述第二盤（2）上設(shè)置所述進(jìn)氣孔（21）和所述排氣孔（22），所述第一盤（1）上設(shè)置所述通孔（111）；所述第一盤（1）上設(shè)有多個凹槽（11），每個所述凹槽（11）由所述第一盤的中心沿著徑向向外輻射延伸，且多個所述凹槽（11）在所述第一盤（1）的周向上均勻間隔開設(shè)置，在每個所述凹槽（11）上設(shè)有所述通孔（111）；所述第二盤（2）包括底面（23）和第二邊緣（24），所述第二邊緣（24）圍設(shè)在所述底面（23）的外周，所述底面（23）的高度低于所述第二邊緣（24）的高度；所述進(jìn)氣孔（21）設(shè)置在所述底面（23）上，所述排氣孔（22）設(shè)置在所述第二邊緣（24）上，以使一部分進(jìn)氣氣流的流線與所述第一盤（1）相交，另一部分進(jìn)氣氣流通過所述排氣孔（22）排出。

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