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龍圖騰網恭喜富士膠片株式會社申請的專利處理液、基板的處理方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115989314B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-15發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202180051654.5，技術領域涉及：H01L21/304；該發明授權處理液、基板的處理方法是由高橋智威;杉島泰雄;水谷篤史設計研發完成，并于2021-08-18向國家知識產權局提交的專利申請。

本處理液、基板的處理方法在說明書摘要公布了：本發明的課題在于提供一種半導體器件用處理液，所述處理液對于含金屬的層的耐腐蝕性及去除對象物的去除性優異并且在后處理液中的溶解性優異。并且，本發明的課題在于提供一種使用上述處理液的基板的處理方法。本發明的處理液為半導體器件用處理液，其含有水、去除劑及共聚物，共聚物具有第1重復單元及與第1重復單元不同的第2重復單元，所述第1重復單元具有選自伯氨基、仲氨基、叔氨基及季銨陽離子中的至少1種基團。

本發明授權處理液、基板的處理方法在權利要求書中公布了：1.一種處理液，其為半導體器件用處理液，所述處理液含有：水；去除劑；及樹脂，所述樹脂具有第1重復單元及與所述第1重復單元不同的第2重復單元，所述第1重復單元具有選自伯氨基、仲氨基、叔氨基及季銨陽離子中的至少1種，所述第2重復單元含有由下述式（2a）表示的重復單元，所述第2重復單元的含量相對于所述樹脂中的所有重復單元為5摩爾%～95摩爾%，所述樹脂所具有的所述第1重復單元的摩爾數m與所述第2重復單元的摩爾數n的比率m:n為5:1～1:5，所述樹脂的重均分子量為5000～150000，所述樹脂的含量相對于所述處理液的總質量為1質量ppm～500質量ppm，所述水的含量相對于所述處理液的總質量為10質量%～98質量%，所述去除劑選自含氟化合物、羥胺化合物、堿性化合物、酸性化合物中的至少1種，所述去除劑的含量相對于所述處理液的總質量為0.005質量%～90質量%， 式（2a）中，A21、A22及A23分別獨立地表示氫原子、碳原子數1～4的直鏈狀或支鏈狀的烷基或-L2-X21，X21表示親水性基團，所述親水性基團為選自羥基、羧基、伯氨基、仲氨基、叔氨基、酰胺基、聚氧化烯基、磺基及磺酰基中的基團，L2表示單鍵或二價連接基團，當X21及L2分別存在2個以上的情況下，相同或不同。

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