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龍圖騰網恭喜哈爾濱工程大學申請的專利一種高光學透明度涂層及其制備方法和應用獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN117089283B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-15發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202311173399.9，技術領域涉及：C09D183/08；該發明授權一種高光學透明度涂層及其制備方法和應用是由王君;張建偉;陳蓉蓉;朱佳慧;劉琦;李茹民;白雪峰設計研發完成，并于2023-09-12向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種高光學透明度涂層及其制備方法和應用在說明書摘要公布了：本發明公開了一種高光學透明度涂層及其制備方法和應用，其中制備方法包括以下步驟：S1.將單萜醇、硫醇單體進行攪拌混合，之后加入光引發劑，然后在紫外光照下反應，生成溶液A；S2.選擇硅酸四甲酯或硅酸四乙酯，再選擇R1基三甲氧基硅烷或R2基三乙氧基硅烷，然后選擇醇類進行混合攪拌，得到溶液B；S3.將溶液A逐漸滴加到溶液B中，并攪拌，反應得到溶液C；S4.將酸溶液滴加到溶液C中，室溫反應，得到均一、透明的溶液D；S5.將溶液D靜置，然后涂敷于基材表面；S6.將涂覆溶液D的基材在室溫下暗處進行放置，形成穩定涂層。本發明制備的涂層具備高光學透明度、高抗菌活性和高抑制硅藻綠藻附著特性。

本發明授權一種高光學透明度涂層及其制備方法和應用在權利要求書中公布了：1.一種高光學透明度涂層的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：S1.將單萜醇、硫醇單體進行攪拌混合，之后加入光引發劑，然后在紫外光照下反應，生成溶液A；S2.選擇硅酸四甲酯或硅酸四乙酯，再選擇R1基三甲氧基硅烷或R2基三乙氧基硅烷，然后選擇醇類進行混合攪拌，得到溶液B；其中R1基或R2基是甲基、乙基、丙基、丁基、己基、戊基、辛基、癸基、蒽基、乙烯基、氯甲基、烯丙基、環烷基、氨丙基、巰丙基中的一種；S3.將溶液A逐漸滴加到溶液B中，并攪拌，反應得到溶液C；S4.將酸溶液滴加到溶液C中，室溫反應，得到均一、透明的溶液D；S5.將溶液D靜置，然后通過旋涂、浸涂、刷涂或噴涂的方式涂敷于基材表面；S6.將涂覆溶液D的基材在室溫下暗處進行放置，形成穩定涂層。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人哈爾濱工程大學，其通訊地址為：150001 黑龍江省哈爾濱市南崗區南通大街145號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。