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龍圖騰網(wǎng)恭喜重慶萬(wàn)國(guó)半導(dǎo)體科技有限公司申請(qǐng)的專利一種能夠提高電場(chǎng)分布均勻程度的溝槽器件終端結(jié)構(gòu)獲國(guó)家實(shí)用新型專利權(quán)，本實(shí)用新型專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN222764204U 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-15發(fā)布的實(shí)用新型授權(quán)公告中獲悉：該實(shí)用新型的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202420608880.X，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H10D62/10；該實(shí)用新型一種能夠提高電場(chǎng)分布均勻程度的溝槽器件終端結(jié)構(gòu)是由周振強(qiáng)設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2024-03-26向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種能夠提高電場(chǎng)分布均勻程度的溝槽器件終端結(jié)構(gòu)在說(shuō)明書摘要公布了：本實(shí)用新型公開了一種能夠提高電場(chǎng)分布均勻程度的溝槽器件終端結(jié)構(gòu)，包括襯底，所述襯底上設(shè)置有外延層，所述外延層上嵌套設(shè)置有多個(gè)終端溝槽環(huán)，所述多個(gè)終端溝槽環(huán)包括外側(cè)的外終端環(huán)、內(nèi)側(cè)的內(nèi)終端環(huán)以及設(shè)置在外終端環(huán)和內(nèi)終端環(huán)之間的至少一個(gè)中間終端環(huán)，所述內(nèi)終端環(huán)內(nèi)部間隔設(shè)置有多個(gè)常規(guī)溝槽；各個(gè)所述常規(guī)溝槽的兩端分別通過(guò)一第一窄溝槽與內(nèi)終端環(huán)連接，所述第一窄溝槽的槽寬小于常規(guī)溝槽的槽寬。本實(shí)用新型中，通過(guò)設(shè)置第一窄溝槽可以使得整個(gè)溝槽器件的各個(gè)區(qū)域電場(chǎng)分布更加一致、提高苛刻工況的應(yīng)用表現(xiàn)與可靠性，并可以使溝槽器件外延工藝窗口增大，從而也可以降低工藝研發(fā)與調(diào)試的難度；結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，實(shí)用性強(qiáng)。

本實(shí)用新型一種能夠提高電場(chǎng)分布均勻程度的溝槽器件終端結(jié)構(gòu)在權(quán)利要求書中公布了：1.一種能夠提高電場(chǎng)分布均勻程度的溝槽器件終端結(jié)構(gòu)，其特征在于：包括襯底，所述襯底上設(shè)置有外延層，所述外延層上嵌套設(shè)置有多個(gè)終端溝槽環(huán)，所述多個(gè)終端溝槽環(huán)包括外側(cè)的外終端環(huán)、內(nèi)側(cè)的內(nèi)終端環(huán)以及設(shè)置在外終端環(huán)和內(nèi)終端環(huán)之間的至少一個(gè)中間終端環(huán)，所述內(nèi)終端環(huán)內(nèi)部間隔設(shè)置有多個(gè)常規(guī)溝槽；各個(gè)所述常規(guī)溝槽的兩端分別通過(guò)一第一窄溝槽與內(nèi)終端環(huán)連接，所述第一窄溝槽的槽寬小于常規(guī)溝槽的槽寬。

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