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龍圖騰網恭喜杭州邦齊州科技有限公司申請的專利一種花苞狀納米結構的制備方法及花苞狀納米結構模板獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN118495460B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-15發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202410402314.8，技術領域涉及：B81C1/00；該發明授權一種花苞狀納米結構的制備方法及花苞狀納米結構模板是由張曉旭設計研發完成，并于2024-04-03向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種花苞狀納米結構的制備方法及花苞狀納米結構模板在說明書摘要公布了：本申請公開了一種花苞狀納米結構的制備方法及花苞狀納米結構模板，方法包括：提供基底；在基底表面形成金屬膜層；在金屬膜層表面形成光刻膠層，光刻膠層為具有環臺；對金屬膜層進行反應離子束刻蝕處理，刻蝕束流與金屬膜層法線之間的角度在75°～89°之間；去除光刻膠層，得到具有周期分布的花苞狀納米結構。花苞狀納米結構模板包括基底以及設置在基底表面的金屬膜層，金屬膜層上具有周期性設置的花苞狀納米結構。不需要使用各種化學品對帶膠結構進行腐蝕操作，既可以避免引入其他不必要缺陷，也可以精簡操作步驟，保障實驗人員安全。同時，通過控制光刻膠層上的環臺布局以及結合刻蝕束流，可以簡單便捷的得到具有周期性的花苞狀納米結構。

本發明授權一種花苞狀納米結構的制備方法及花苞狀納米結構模板在權利要求書中公布了：1.一種花苞狀納米結構的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：提供基底，所述基底為經過清洗且無雜質的基底；在所述基底表面形成金屬膜層；在所述金屬膜層表面形成光刻膠層，所述光刻膠層為具有多個周期性設置的環臺；對形成有光刻膠層的所述金屬膜層進行反應離子束刻蝕處理；刻蝕束流與所述金屬膜層法線之間的角度在75°~89°之間；去除光刻膠層，得到具有周期分布的花苞狀納米結構；對金屬膜層進行反應離子束刻蝕處理的具體步驟包括：將形成有金屬膜層和光刻膠層的基底固定在離子束刻蝕機的腔體托盤上；設置離子束刻蝕機的氬氣流量在10sccm~17sccm之間，加速電壓在120V~160V之間，束流在180mA~202mA之間，腔內壓強在6*10-4Pa~9*10-4Pa之間，刻蝕時間在180s~420s之間。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人杭州邦齊州科技有限公司，其通訊地址為：311400 浙江省杭州市富陽區春江街道江南路68號第23幢910室；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。