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恭喜湖南三安半導(dǎo)體有限責(zé)任公司劉杰獲國(guó)家專利權(quán)

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龍圖騰網(wǎng)恭喜湖南三安半導(dǎo)體有限責(zé)任公司申請(qǐng)的專利功率器件獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN119181727B

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-04發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202411704684.3,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H10D30/66;該發(fā)明授權(quán)功率器件是由劉杰;蔡文必;林志東;郭元旭;李立均設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2024-11-26向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

功率器件在說明書摘要公布了:本申請(qǐng)?zhí)峁┑墓β势骷谶吘壗K端區(qū)內(nèi),半導(dǎo)體外延片包括沿底部到頂部方向交替層疊設(shè)置的多個(gè)第一外延層以及多個(gè)第二外延層;第二外延層包括第一摻雜區(qū)和第二摻雜區(qū);第一摻雜區(qū)環(huán)繞有源區(qū)一周形成第一環(huán)狀結(jié)構(gòu);第一外延層和第一摻雜區(qū)為第一導(dǎo)電類型,第二摻雜區(qū)為第二導(dǎo)電類型;以此,在器件反偏,可增大器件在反偏時(shí)承受的耐壓。且進(jìn)一步設(shè)置相鄰兩個(gè)第二外延層中的第一摻雜區(qū)在襯底上的投影不完全重疊,能夠增加電流路徑長(zhǎng)度,從而進(jìn)一步地增加器件在反偏時(shí)外延層承受的耐壓。以此,在器件耐壓相同的情況下,本申請(qǐng)?zhí)峁┑墓β势骷軌驕p小邊緣終端區(qū)的尺寸,減少芯片面積的浪費(fèi)。

本發(fā)明授權(quán)功率器件在權(quán)利要求書中公布了:1.一種功率器件,其特征在于,包括:襯底;半導(dǎo)體外延片,設(shè)置于所述襯底上;所述半導(dǎo)體外延片包括有源區(qū)和圍繞所述有源區(qū)外的邊緣終端區(qū);在所述有源區(qū)內(nèi),所述半導(dǎo)體外延片內(nèi)具有間隔設(shè)置的若干半導(dǎo)體元胞,若干所述半導(dǎo)體元胞均從所述半導(dǎo)體外延片遠(yuǎn)離所述襯底的表面朝向所述襯底的方向延伸,所述半導(dǎo)體元胞包括相接的阱區(qū)、阱區(qū)接觸區(qū)以及源區(qū);其中,定義所述襯底一側(cè)為底部,所述半導(dǎo)體元胞一側(cè)為頂部;在所述邊緣終端區(qū)內(nèi),所述半導(dǎo)體外延片包括沿所述底部到所述頂部方向交替層疊設(shè)置的多個(gè)第一外延層以及多個(gè)第二外延層;所述第二外延層包括第一摻雜區(qū)和第二摻雜區(qū);所述第一摻雜區(qū)環(huán)繞所述有源區(qū)一周形成第一環(huán)狀結(jié)構(gòu);所述第一外延層和所述第一摻雜區(qū)為第一導(dǎo)電類型,所述第二摻雜區(qū)為第二導(dǎo)電類型;相鄰兩個(gè)所述第二外延層中的所述第一摻雜區(qū)在所述襯底上的投影不完全重疊。

如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人湖南三安半導(dǎo)體有限責(zé)任公司,其通訊地址為:410217 湖南省長(zhǎng)沙市高新開發(fā)區(qū)長(zhǎng)興路399號(hào);或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。

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