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龍圖騰網(wǎng)恭喜大連奧首科技有限公司申請(qǐng)的專利一種半導(dǎo)體鈷制程CMP后清洗液、其制備方法與應(yīng)用獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN119193245B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-04發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202411710006.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C11D1/78；該發(fā)明授權(quán)一種半導(dǎo)體鈷制程CMP后清洗液、其制備方法與應(yīng)用是由呂晶;侯軍;任浩楠;王欣欣設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2024-11-27向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種半導(dǎo)體鈷制程CMP后清洗液、其制備方法與應(yīng)用在說(shuō)明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種半導(dǎo)體鈷制程CMP后清洗液、其制備方法與應(yīng)用，半導(dǎo)體鈷制程CMP后清洗液，包括重量配比如下的各組分：環(huán)糊精PEG氨基酸類化合物1?15份；緩蝕劑0.1?1份；磷酸酯類化合物5?15份；有機(jī)弱堿10?20份；超純水60?80份。本發(fā)明還公開了半導(dǎo)體鈷制程CMP后清洗液的制備方法，及其在半導(dǎo)體芯片清洗領(lǐng)域的應(yīng)用。本發(fā)明半導(dǎo)體鈷制程CMP后清洗液不含強(qiáng)堿、強(qiáng)酸，仍能有效清除有機(jī)殘留物、顆粒等污染物，且對(duì)芯片無(wú)腐蝕。本發(fā)明半導(dǎo)體鈷制程CMP后清洗液對(duì)清洗工藝無(wú)特殊要求，僅在浸泡的工藝下，即可使芯片上所粘附的有機(jī)污染物、各種顆粒洗脫完全，后續(xù)僅經(jīng)過(guò)純水沖洗即可，水洗后無(wú)臟污殘留。

本發(fā)明授權(quán)一種半導(dǎo)體鈷制程CMP后清洗液、其制備方法與應(yīng)用在權(quán)利要求書中公布了：1.一種半導(dǎo)體鈷制程CMP后清洗液，其特征在于，包括重量配比如下的各組分：環(huán)糊精PEG氨基酸類化合物1-15份；緩蝕劑0.1-1份；磷酸酯類化合物5-15份；有機(jī)弱堿10-20份；超純水60-80份；所述環(huán)糊精PEG氨基酸類化合物為環(huán)糊精-聚乙二醇-甘氨酸、環(huán)糊精-聚乙二醇-組氨酸、環(huán)糊精-聚乙二醇-谷氨酸、環(huán)糊精-聚乙二醇-賴氨酸和環(huán)糊精-聚乙二醇-蘇氨酸中的一種或多種；所述緩蝕劑為冠醚異羥肟酸、L-谷氨酸γ-單異羥肟酸和軟木肟酸中的一種或多種；所述磷酸酯類化合物為烷基酚聚氧乙烯醚磷酸酯和或??脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯。

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