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龍圖騰網(wǎng)恭喜萊寶有限責任公司申請的專利質(zhì)譜儀和用于校準質(zhì)譜儀的方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN114631168B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-01發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：201980101584.2，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01J49/00；該發(fā)明授權(quán)質(zhì)譜儀和用于校準質(zhì)譜儀的方法是由L·戈克霍弗;Y·布拉赫陶澤爾設(shè)計研發(fā)完成，并于2019-10-22向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本質(zhì)譜儀和用于校準質(zhì)譜儀的方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及一種質(zhì)譜儀1，包括：氣體進口2，其被適配為把要被離子化的樣本氣體4供給到質(zhì)譜儀1的離子化區(qū)5；校準單元6，其被適配為把要被離子化的校準氣體7供給到離子化區(qū)5；以及離子化單元8，其被適配為對離子化區(qū)5中的樣本氣體4和或校準氣體7進行離子化。校準單元6包括至少一個蒸發(fā)源9以用于通過蒸發(fā)源材料10來生成校準氣體7。本發(fā)明還涉及一種用于校準質(zhì)譜儀1的方法。

本發(fā)明授權(quán)質(zhì)譜儀和用于校準質(zhì)譜儀的方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種質(zhì)譜儀1，包括：氣體進口2，其被適配為把要被離子化的樣本氣體4供給到質(zhì)譜儀1的離子化區(qū)5，校準單元6，其被適配為把要被離子化的校準氣體7供給到離子化區(qū)5，離子化單元8，其被適配為對離子化區(qū)5中的樣本氣體4和或校準氣體7進行離子化，其中校準單元6包括至少一個蒸發(fā)源9以用于通過蒸發(fā)源材料10來生成校準氣體7，其中蒸發(fā)源材料10和離子化區(qū)5沿著不被質(zhì)譜儀1的任何組件阻擋的直線布置，其中源材料10是從由如下構(gòu)成的組中選擇的金屬：Al、Co、Mn、Bi、Ni、Fe、Cu和Au，或者其中源材料10是從由如下構(gòu)成的組中選擇的：金屬氮化物和金屬氧化物。

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