恭喜慧石(上海)測(cè)控科技有限公司趙懌獲國(guó)家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜慧石(上海)測(cè)控科技有限公司申請(qǐng)的專利壓力傳感器及其制造方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN112924058B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-01發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202110093640.1,技術(shù)領(lǐng)域涉及:G01L1/18;該發(fā)明授權(quán)壓力傳感器及其制造方法是由趙懌;周志健;熊娟;余倫宙設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2021-01-22向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本壓力傳感器及其制造方法在說明書摘要公布了:本發(fā)明涉及一種壓力傳感器及其制造方法,壓力傳感器包括襯底結(jié)構(gòu)、頂層結(jié)構(gòu)以及敏感膜層結(jié)構(gòu),頂層結(jié)構(gòu)包括第一硅層、設(shè)于第一硅層背面的第一絕緣層、設(shè)于第一絕緣層背面的壓阻層以及設(shè)于第一硅層正面的頂層第一下絕緣層;頂層結(jié)構(gòu)上形成有貫穿頂層第一下絕緣層、第一硅層及第一絕緣層的淀積孔及梁孔,淀積孔的孔壁上形成有孔壁絕緣層;襯底結(jié)構(gòu)的上表面向下凹陷形成鍵合槽,頂層結(jié)構(gòu)倒置與襯底結(jié)構(gòu)上,頂層第一下絕緣層的正面朝向襯底結(jié)構(gòu),淀積孔與鍵合槽連通;敏感膜層結(jié)構(gòu)形成于孔壁絕緣層的內(nèi)壁且向下延伸并包覆鍵合槽的內(nèi)壁與頂層結(jié)構(gòu)的下表面。該壓力傳感器形成梁?膜應(yīng)力集中結(jié)構(gòu),達(dá)到測(cè)量微小壓力的目的。
本發(fā)明授權(quán)壓力傳感器及其制造方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種壓力傳感器,其特征在于:包括襯底結(jié)構(gòu)、頂層結(jié)構(gòu)以及敏感膜層結(jié)構(gòu),所述頂層結(jié)構(gòu)包括第一硅層、設(shè)于所述第一硅層背面的第一絕緣層、設(shè)于所述第一絕緣層背面的壓阻層以及設(shè)于所述第一硅層正面的頂層第一下絕緣層;所述頂層結(jié)構(gòu)上形成有貫穿所述頂層第一下絕緣層、所述第一硅層及所述第一絕緣層的淀積孔及梁孔,所述淀積孔的孔壁上形成有孔壁絕緣層;所述襯底結(jié)構(gòu)的上表面向下凹陷形成鍵合槽,所述頂層結(jié)構(gòu)倒置于所述襯底結(jié)構(gòu)上,所述頂層第一下絕緣層的正面朝向所述襯底結(jié)構(gòu),所述淀積孔與所述鍵合槽連通;所述敏感膜層結(jié)構(gòu)形成于所述孔壁絕緣層的內(nèi)壁且向下延伸并包覆所述鍵合槽的內(nèi)壁與所述頂層結(jié)構(gòu)的下表面。
如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人慧石(上海)測(cè)控科技有限公司,其通訊地址為:200000 上海市青浦區(qū)華紡路99號(hào)99弄6幢3樓;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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