恭喜湖南普照信息材料有限公司李翼獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜湖南普照信息材料有限公司申請的專利一種光掩模坯料及其制備方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113488378B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-01發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110823958.0，技術領域涉及：H01L21/027；該發明授權一種光掩模坯料及其制備方法是由李翼;李偉;周志剛設計研發完成，并于2021-07-21向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種光掩模坯料及其制備方法在說明書摘要公布了：本發明提供了一種光掩模胚料，包括：基底；設置在所述基底上的相移層；設置在所述相移層上的遮光膜層；所述遮光膜層包括鉻元素、氧元素與碳元素；設置在所述遮光膜層上的低反射膜層；所述低反射膜層包括鉻元素、碳元素、氮元素與氧元素。與現有技術相比，本發明通過在遮光膜層及低反射膜層中引入鉻碳化合物，可更好地穩定刻蝕均勻性從而得到更好地刻蝕剖面，同時還可在降低薄膜厚度的同時保持其光密度，提高曝光效果；并且薄膜均勻，方阻較小，可有效防止出現靜電擊穿和靜電累積現象。進一步，本發明通過濺射沉積工藝連續堆疊相移膜、遮光膜與低反射膜，使薄膜降低厚度的同時保持光密度不變。
本發明授權一種光掩模坯料及其制備方法在權利要求書中公布了：1.一種光掩模胚料，其特征在于，包括：基底；設置在所述基底上的相移層；所述相移層為氮鉬化硅薄膜、硅氧化物薄膜、硅氮化物薄膜或硅氮氧化物薄膜中的任意一種，所述相移層的相移角為179～181度；設置在所述相移層上的遮光膜層；所述遮光膜層包括鉻元素、氧元素與碳元素；設置在所述遮光膜層上的低反射膜層；所述低反射膜層包括鉻元素、碳元素、氮元素與氧元素；所述遮光膜層中鉻元素、氧元素與碳元素的摩爾比為50～70：25～45：1～5；所述低反射膜層中鉻元素、碳元素、氮元素與氧元素的摩爾比35～45：2～10：15～20：30～50；所述遮光膜層的厚度為遮光膜層與低反射膜層總厚度的75～85％；所述遮光膜層與低反射膜層的總厚度為70～76nm。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人湖南普照信息材料有限公司，其通訊地址為：410205 湖南省長沙市岳麓區麓楓路40號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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