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龍圖騰網(wǎng)恭喜湖南普照信息材料有限公司申請的專利一種光掩模坯料及其制備方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN113488378B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-01發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號(hào)為：202110823958.0，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/027；該發(fā)明授權(quán)一種光掩模坯料及其制備方法是由李翼;李偉;周志剛設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-07-21向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種光掩模坯料及其制備方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供了一種光掩模胚料，包括：基底；設(shè)置在所述基底上的相移層；設(shè)置在所述相移層上的遮光膜層；所述遮光膜層包括鉻元素、氧元素與碳元素；設(shè)置在所述遮光膜層上的低反射膜層；所述低反射膜層包括鉻元素、碳元素、氮元素與氧元素。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明通過在遮光膜層及低反射膜層中引入鉻碳化合物，可更好地穩(wěn)定刻蝕均勻性從而得到更好地刻蝕剖面，同時(shí)還可在降低薄膜厚度的同時(shí)保持其光密度，提高曝光效果；并且薄膜均勻，方阻較小，可有效防止出現(xiàn)靜電擊穿和靜電累積現(xiàn)象。進(jìn)一步，本發(fā)明通過濺射沉積工藝連續(xù)堆疊相移膜、遮光膜與低反射膜，使薄膜降低厚度的同時(shí)保持光密度不變。

本發(fā)明授權(quán)一種光掩模坯料及其制備方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種光掩模胚料，其特征在于，包括：基底；設(shè)置在所述基底上的相移層；所述相移層為氮鉬化硅薄膜、硅氧化物薄膜、硅氮化物薄膜或硅氮氧化物薄膜中的任意一種，所述相移層的相移角為179～181度；設(shè)置在所述相移層上的遮光膜層；所述遮光膜層包括鉻元素、氧元素與碳元素；設(shè)置在所述遮光膜層上的低反射膜層；所述低反射膜層包括鉻元素、碳元素、氮元素與氧元素；所述遮光膜層中鉻元素、氧元素與碳元素的摩爾比為50～70：25～45：1～5；所述低反射膜層中鉻元素、碳元素、氮元素與氧元素的摩爾比35～45：2～10：15～20：30～50；所述遮光膜層的厚度為遮光膜層與低反射膜層總厚度的75～85％；所述遮光膜層與低反射膜層的總厚度為70～76nm。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人湖南普照信息材料有限公司，其通訊地址為：410205 湖南省長沙市岳麓區(qū)麓楓路40號(hào)；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。