買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標用IPTOP,全免費！專利年費監控用IP管家,真方便！

龍圖騰網恭喜上海精測半導體技術有限公司申請的專利一種基于光柵圖像的位移測量方法及裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114387323B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-01發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111593678.1，技術領域涉及：G06T7/521；該發明授權一種基于光柵圖像的位移測量方法及裝置是由黃濤;劉驪松設計研發完成，并于2021-12-23向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種基于光柵圖像的位移測量方法及裝置在說明書摘要公布了：本發明涉及一種基于光柵圖像的位移測量方法及裝置，首先獲取模板圖像；其次，沿光柵條紋方向對所述模板圖像進行投影得到模板向量；然后，采集待測物位移后的光柵圖像，沿光柵條紋方向對所述光柵圖像進行投影，構建待測向量，計算待測向量與模板向量的歸一化相關系數，其中相關系數最大值對應的像素位置即為待測物位移后的目標特征的像素位置；最后將待測物位移后的目標特征的像素位置與目標特征初始像素位置相減，得到目標特征的相對像素位移，基于所述相對像素位移和所述待測物的初始位置，得到待測物位移后的絕對位置。本發明僅需光柵光源以及采集光柵圖像的攝像頭即可進行位移測量，適合狹小空間中的位移測量。

本發明授權一種基于光柵圖像的位移測量方法及裝置在權利要求書中公布了：1.一種基于光柵圖像的位移測量方法，其特征在于，包括以下步驟：S1，獲取模板圖像，包括：標定待測物的初始位置，并采集待測物的光柵圖像，所述光柵圖像包括目標特征，所述目標特征是所述光柵圖像中不同于光柵條紋的標記，獲取所述目標特征的初始像素位置，通過在所述光柵圖像中截取包含所述目標特征及其相鄰多個周期的光柵條紋獲得所述模板圖像；S2，沿光柵條紋方向依次計算所述模板圖像中每一列像素的灰度平均值，構建模板向量；S3，采集所述待測物位移后的光柵圖像；S4，沿光柵條紋方向依次計算所述待測物位移后的光柵圖像中每一列像素的灰度平均值，構建待測向量；S5，計算所述待測向量與所述模板向量的歸一化相關系數，其中所述歸一化相關系數最大值對應的像素位置即為所述待測物位移后的目標特征的像素位置；S6，將待測物位移后的目標特征的像素位置與目標特征初始像素位置相減，得到目標特征的相對像素位移，基于所述相對像素位移和所述待測物的初始位置，得到待測物位移后的絕對位置。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人上海精測半導體技術有限公司，其通訊地址為：201700 上海市青浦區徐涇鎮雙浜路269、299號1幢1、3層；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。