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龍圖騰網(wǎng)恭喜上海精測(cè)半導(dǎo)體技術(shù)有限公司申請(qǐng)的專利一種基于光柵圖像的位移測(cè)量方法及裝置獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN114387323B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-01發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202111593678.1，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G06T7/521；該發(fā)明授權(quán)一種基于光柵圖像的位移測(cè)量方法及裝置是由黃濤;劉驪松設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-12-23向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種基于光柵圖像的位移測(cè)量方法及裝置在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及一種基于光柵圖像的位移測(cè)量方法及裝置，首先獲取模板圖像；其次，沿光柵條紋方向?qū)λ瞿０鍒D像進(jìn)行投影得到模板向量；然后，采集待測(cè)物位移后的光柵圖像，沿光柵條紋方向?qū)λ龉鈻艌D像進(jìn)行投影，構(gòu)建待測(cè)向量，計(jì)算待測(cè)向量與模板向量的歸一化相關(guān)系數(shù)，其中相關(guān)系數(shù)最大值對(duì)應(yīng)的像素位置即為待測(cè)物位移后的目標(biāo)特征的像素位置；最后將待測(cè)物位移后的目標(biāo)特征的像素位置與目標(biāo)特征初始像素位置相減，得到目標(biāo)特征的相對(duì)像素位移，基于所述相對(duì)像素位移和所述待測(cè)物的初始位置，得到待測(cè)物位移后的絕對(duì)位置。本發(fā)明僅需光柵光源以及采集光柵圖像的攝像頭即可進(jìn)行位移測(cè)量，適合狹小空間中的位移測(cè)量。

本發(fā)明授權(quán)一種基于光柵圖像的位移測(cè)量方法及裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種基于光柵圖像的位移測(cè)量方法，其特征在于，包括以下步驟：S1，獲取模板圖像，包括：標(biāo)定待測(cè)物的初始位置，并采集待測(cè)物的光柵圖像，所述光柵圖像包括目標(biāo)特征，所述目標(biāo)特征是所述光柵圖像中不同于光柵條紋的標(biāo)記，獲取所述目標(biāo)特征的初始像素位置，通過在所述光柵圖像中截取包含所述目標(biāo)特征及其相鄰多個(gè)周期的光柵條紋獲得所述模板圖像；S2，沿光柵條紋方向依次計(jì)算所述模板圖像中每一列像素的灰度平均值，構(gòu)建模板向量；S3，采集所述待測(cè)物位移后的光柵圖像；S4，沿光柵條紋方向依次計(jì)算所述待測(cè)物位移后的光柵圖像中每一列像素的灰度平均值，構(gòu)建待測(cè)向量；S5，計(jì)算所述待測(cè)向量與所述模板向量的歸一化相關(guān)系數(shù)，其中所述歸一化相關(guān)系數(shù)最大值對(duì)應(yīng)的像素位置即為所述待測(cè)物位移后的目標(biāo)特征的像素位置；S6，將待測(cè)物位移后的目標(biāo)特征的像素位置與目標(biāo)特征初始像素位置相減，得到目標(biāo)特征的相對(duì)像素位移，基于所述相對(duì)像素位移和所述待測(cè)物的初始位置，得到待測(cè)物位移后的絕對(duì)位置。

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