恭喜齊魯中科光物理與工程技術研究院李英獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜齊魯中科光物理與工程技術研究院申請的專利一種超聲清洗氧化鈰的方法與裝置獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115625148B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-01發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202211254054.1,技術領域涉及:B08B3/12;該發明授權一種超聲清洗氧化鈰的方法與裝置是由李英;張佳瑞;曾祥飛;趙梅設計研發完成,并于2022-10-13向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種超聲清洗氧化鈰的方法與裝置在說明書摘要公布了:本發明涉及超聲清洗機技術領域,具體地涉及一種超聲清洗氧化鈰的方法與裝置,采用清洗劑對超光滑表面殘留的氧化鈰進行清洗,所述清洗劑包括主劑和助劑;所述主劑采用酸性溶劑,酸性溶劑能夠與元件表面發生化學反應,溶解掉表面殘留的氧化鈰;所述助劑采用堿性懸浮劑,堿性懸浮劑能夠防止氧化鈰再次凝結,防止再生污漬。本發明在整個清洗過程中,能夠無損傷去除超光滑表面氧化鈰殘留,所述超聲清洗槽裝置,能夠使清洗劑的Ph值和溫度始終保持在最佳狀態,使清洗效果達到最佳,能夠提高超光滑表面的質量。
本發明授權一種超聲清洗氧化鈰的方法與裝置在權利要求書中公布了:1.一種超聲清洗氧化鈰的方法,采用清洗劑對光學元件超光滑表面殘留的氧化鈰進行清洗,其特征在于:所述清洗劑包括主劑和助劑;所述主劑采用酸性溶劑,酸性溶劑能夠與光學元件表面發生化學反應,溶解掉表面殘留的氧化鈰;所述助劑采用堿性懸浮劑,堿性懸浮劑能夠防止氧化鈰再次凝結,防止再生污漬;采用清洗劑對超光滑表面殘留的氧化鈰進行清洗,包括以下步驟:1配置清洗劑:將配比為1%的酸性溶劑和配比為4%的堿性懸浮劑融合得到Ph為7的清洗劑;2將待清洗的光學元件放入清洗劑中,開始清洗,同時探測Ph值和溫度;3當Ph值超過設定的最高閾值,即Ph7.2,溶劑存放器開始往清洗槽內加酸性溶劑,當Ph值超過設定的最低閾值,即Ph6.8,溶劑存放器開始往清洗槽內加堿性懸浮劑,直到Ph值恢復至6.8-7.2;當溫度超過設定的最高閾值,即T50℃,工作暫停,開始冷卻,當溫度超過設定的最低閾值,即T40℃,開始加熱,直到溫度恢復至40℃-50℃。
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