萬華化學(xué)集團股份有限公司欒謹鑫獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉萬華化學(xué)集團股份有限公司申請的專利一種合成五氧化二氮的電極材料及其制備方法和應(yīng)用獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN115700297B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-01發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202211423758.7，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C25B1/01；該發(fā)明授權(quán)一種合成五氧化二氮的電極材料及其制備方法和應(yīng)用是由欒謹鑫;杜旺明;張永振設(shè)計研發(fā)完成，并于2022-11-14向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本一種合成五氧化二氮的電極材料及其制備方法和應(yīng)用在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種合成五氧化二氮的電極材料及其制備方法和應(yīng)用。所述電極材料是由具有In2O3Rh2O3CeO2三元復(fù)合涂層的銀網(wǎng)，并在其表面涂覆鎳摻雜的硅烷疏水膜層，并附著于陰離子交換膜上形成的復(fù)合材料。將該電極材料用于采用NO2為原料電解合成N2O5的陽極，銀網(wǎng)表面覆蓋的In2O3Rh2O3CeO2三元復(fù)合涂層可有效催化硝酸的電化學(xué)氧化反應(yīng)生成N2O5，外部刷涂鎳粉摻雜的硅烷鎳粉摻雜的硅烷疏水膜層，可消除NO2和N2O4在陽極室傳質(zhì)阻力，抑制產(chǎn)品N2O5向陰極區(qū)域的擴散，抑制陰極生成的水向陽極的滲透，解決產(chǎn)品及原料在陰陽極室間擴散問題，提高電解收率，降低生產(chǎn)比能，具有良好的工業(yè)化前景。
本發(fā)明授權(quán)一種合成五氧化二氮的電極材料及其制備方法和應(yīng)用在權(quán)利要求書中公布了：1.一種合成五氧化二氮的電極材料，其特征在于，所述電極材料是由具有In2O3Rh2O3CeO2三元復(fù)合涂層的銀網(wǎng)，在其表面涂覆鎳摻雜的硅烷疏水膜層，并附著于陰離子交換膜上形成的復(fù)合材料。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人萬華化學(xué)集團股份有限公司，其通訊地址為：264006 山東省煙臺市經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)重慶大街59號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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