恭喜廈門嘉達(dá)聲學(xué)技術(shù)有限公司宋繼萍獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜廈門嘉達(dá)聲學(xué)技術(shù)有限公司申請的專利隔振模塊結(jié)構(gòu)獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號為:CN111828540B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-03-21發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為:202010829061.4,技術(shù)領(lǐng)域涉及:F16F15/067;該發(fā)明授權(quán)隔振模塊結(jié)構(gòu)是由宋繼萍;林嘉祥設(shè)計研發(fā)完成,并于2020-08-18向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本隔振模塊結(jié)構(gòu)在說明書摘要公布了:本發(fā)明公開一種隔振模塊結(jié)構(gòu)系規(guī)范化、小型化、系列化的二次隔振臺座結(jié)構(gòu),一次結(jié)構(gòu)包括剛性槽形外殼、兩組上隔振單元,二次結(jié)構(gòu)包括上顆粒阻尼器、剛性承力構(gòu)件、下顆粒阻尼器、兩組下隔振單元,底座包括剛性槽形座、防滑減振墊。上顆粒阻尼器在剛性承力構(gòu)件上部。上隔振單元之間,下顆粒阻尼器設(shè)置于剛性承力構(gòu)件下部,下隔振單元之間;上隔振單元荷載中心與下隔振單元的荷載中心垂直,兩組上隔振單元、下隔振單元分別設(shè)置于剛性槽形座內(nèi)長邊兩側(cè)。剛性槽形外殼槽向下,剛性槽形座槽向上嵌入剛性槽形外殼內(nèi),形成長方體整體結(jié)構(gòu);剛性槽形外殼平面為長方形,其中長邊的尺寸為短邊尺寸的2.5倍~4倍。
本發(fā)明授權(quán)隔振模塊結(jié)構(gòu)在權(quán)利要求書中公布了:1.一種隔振模塊結(jié)構(gòu),系規(guī)范化、小型化、系列化的二次隔振臺座結(jié)構(gòu),一次結(jié)構(gòu)包括剛性槽形外殼、兩組上隔振單元,二次結(jié)構(gòu)包括上顆粒阻尼器、剛性承力構(gòu)件、下顆粒阻尼器、兩組下隔振單元,底座包括剛性槽形座、防滑減振墊,其特征是:上顆粒阻尼器在剛性承力構(gòu)件上部,上隔振單元之間,下顆粒阻尼器設(shè)置于剛性承力構(gòu)件下部,下隔振單元之間;所述的二次結(jié)構(gòu)的重量大于隔振模塊結(jié)構(gòu)總重量的60%,所述的上顆粒阻尼器、下顆粒阻尼器內(nèi)的阻尼顆粒總質(zhì)量為隔振模塊平均工作荷載的5%~8%;上隔振單元荷載中心與下隔振單元的荷載中心垂直,兩組上隔振單元、下隔振單元分別設(shè)置于剛性槽形座內(nèi)長邊兩側(cè)。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)@麢?quán)人廈門嘉達(dá)聲學(xué)技術(shù)有限公司,其通訊地址為:361006 福建省廈門市高崎道888號海天大廈4層452單元A區(qū);或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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