恭喜東京毅力科創株式會社高山貴光獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜東京毅力科創株式會社申請的專利清潔方法和等離子體處理裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN117637431B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-03-21發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202311642146.1，技術領域涉及：H01J37/32；該發明授權清潔方法和等離子體處理裝置是由高山貴光;佐佐木淳一設計研發完成，并于2020-11-20向國家知識產權局提交的專利申請。
本清潔方法和等離子體處理裝置在說明書摘要公布了：本發明提供一種清潔方法和等離子體處理裝置，用于抑制對載置臺的損傷，并且去除沉積于載置臺的外周部的沉積物。清潔方法為等離子體處理裝置中的載置臺的清潔方法，包括進行分離的工序和進行去除的工序。在進行分離的工序中，使用升降機構來使載置臺與基板分離。在進行去除的工序中，在進行分離的工序之后，通過從高頻電源向載置臺供給高頻電力來生成等離子體，從而去除沉積于載置臺的沉積物。另外，在進行分離的工序中，載置臺與基板的分離距離設定為形成于載置臺的外周部周邊的合成阻抗比形成于載置臺的中心部正上方的合成阻抗低。
本發明授權清潔方法和等離子體處理裝置在權利要求書中公布了：1.一種清潔方法，是等離子體處理裝置中的清潔方法，所述等離子體處理裝置具備：處理容器；基板載置臺，其設置于所述處理容器內；以及基板升降機構，其具備支承基板的升降銷，所述清潔方法包括以下工序：工序a，控制所述基板升降機構來使升降銷上升，以接受被搬入到所述處理容器內的基板假片；工序b，控制所述基板升降機構來使所述升降銷的前端位于所述基板載置臺的上方且比在工序a中接受所述基板假片的位置低的位置；工序c，在所述工序b之后，使用等離子體對所述處理容器內進行清潔；以及工序d，控制所述基板升降機構來使所述升降銷上升，以向所述處理容器外搬出所述基板假片。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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