恭喜應用材料公司S·盛獲國家專利權
買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標用IPTOP,全免費！專利年費監控用IP管家,真方便！
龍圖騰網恭喜應用材料公司申請的專利用于高頻處理的蓋堆疊獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115398031B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-03-21發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202180026629.1，技術領域涉及：C23C16/44；該發明授權用于高頻處理的蓋堆疊是由S·盛;L·張;J·C·沃納設計研發完成，并于2021-04-01向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于高頻處理的蓋堆疊在說明書摘要公布了：示例性半導體處理腔室可包括基板支撐件，基板支撐件定位在半導體處理室的處理區域內。腔室可包括蓋板。腔室可包括定位在蓋板和基板支撐件之間的氣箱。氣箱的特征可在于第一表面和與第一表面相對的第二表面。氣箱可以限定中心孔。氣箱可在氣箱的第一表面中限定環形通道，環形通道圍繞中心孔延伸穿過氣箱。氣箱可包含環形外罩，環形外罩跨限定在氣箱第一表面中的環形通道延伸。腔室可以包括阻隔板，阻隔板定位于氣箱與基板支撐件之間。腔室可包含鐵氧體塊，鐵氧體塊定位在蓋板與阻隔板之間。
本發明授權用于高頻處理的蓋堆疊在權利要求書中公布了：1.一種半導體處理腔室，包含：基板支撐件，所述基板支撐件定位在所述半導體處理腔室的處理區域內；蓋板；氣箱，所述氣箱定位在所述蓋板與所述基板支撐件之間，所述氣箱的特征在于第一表面和與所述第一表面相對的第二表面，其中所述氣箱限定中心孔，其中所述氣箱在所述氣箱的所述第一表面中限定環形通道，所述環形通道圍繞所述中心孔延伸通過所述氣箱，其中所述氣箱在所述氣箱的所述第一表面中限定凹入壁架，所述凹入壁架圍繞所述環形通道延伸，并且其中所述氣箱包含環形外罩，所述環形外罩安置在所述凹入壁架上并且跨限定在所述氣箱的所述第一表面中的所述環形通道延伸；阻隔板，所述阻隔板定位在所述氣箱和所述基板支撐件之間，其中所述阻隔板限定多個孔，所述多個孔用作節流閥以用于使氣體通過所述節流閥流動；鐵氧體塊，所述鐵氧體塊定位在所述蓋板與所述阻隔板之間；以及面板，所述面板定位在所述阻隔板和所述基板支撐件之間。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人應用材料公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
免責聲明
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
開放平臺
擔保交易
惠及多方
會員特惠
專屬平臺
適合多方
數據共享
功能齊全
皖公網安備 34010402703815號