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龍圖騰網(wǎng)恭喜應(yīng)用材料公司申請的專利用于高頻處理的蓋堆疊獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN115398031B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-03-21發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202180026629.1，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C23C16/44；該發(fā)明授權(quán)用于高頻處理的蓋堆疊是由S·盛;L·張;J·C·沃納設(shè)計研發(fā)完成，并于2021-04-01向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本用于高頻處理的蓋堆疊在說明書摘要公布了：示例性半導(dǎo)體處理腔室可包括基板支撐件，基板支撐件定位在半導(dǎo)體處理室的處理區(qū)域內(nèi)。腔室可包括蓋板。腔室可包括定位在蓋板和基板支撐件之間的氣箱。氣箱的特征可在于第一表面和與第一表面相對的第二表面。氣箱可以限定中心孔。氣箱可在氣箱的第一表面中限定環(huán)形通道，環(huán)形通道圍繞中心孔延伸穿過氣箱。氣箱可包含環(huán)形外罩，環(huán)形外罩跨限定在氣箱第一表面中的環(huán)形通道延伸。腔室可以包括阻隔板，阻隔板定位于氣箱與基板支撐件之間。腔室可包含鐵氧體塊，鐵氧體塊定位在蓋板與阻隔板之間。

本發(fā)明授權(quán)用于高頻處理的蓋堆疊在權(quán)利要求書中公布了：1.一種半導(dǎo)體處理腔室，包含：基板支撐件，所述基板支撐件定位在所述半導(dǎo)體處理腔室的處理區(qū)域內(nèi)；蓋板；氣箱，所述氣箱定位在所述蓋板與所述基板支撐件之間，所述氣箱的特征在于第一表面和與所述第一表面相對的第二表面，其中所述氣箱限定中心孔，其中所述氣箱在所述氣箱的所述第一表面中限定環(huán)形通道，所述環(huán)形通道圍繞所述中心孔延伸通過所述氣箱，其中所述氣箱在所述氣箱的所述第一表面中限定凹入壁架，所述凹入壁架圍繞所述環(huán)形通道延伸，并且其中所述氣箱包含環(huán)形外罩，所述環(huán)形外罩安置在所述凹入壁架上并且跨限定在所述氣箱的所述第一表面中的所述環(huán)形通道延伸；阻隔板，所述阻隔板定位在所述氣箱和所述基板支撐件之間，其中所述阻隔板限定多個孔，所述多個孔用作節(jié)流閥以用于使氣體通過所述節(jié)流閥流動；鐵氧體塊，所述鐵氧體塊定位在所述蓋板與所述阻隔板之間；以及面板，所述面板定位在所述阻隔板和所述基板支撐件之間。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人應(yīng)用材料公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。