恭喜北京雪迪龍科技股份有限公司敖小強(qiáng)獲國(guó)家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜北京雪迪龍科技股份有限公司申請(qǐng)的專利一種多離子源質(zhì)譜儀器獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN114171369B 。
龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-03-21發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202111576532.6,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H01J49/10;該發(fā)明授權(quán)一種多離子源質(zhì)譜儀器是由敖小強(qiáng);魏文;胡丹;卞玉倩設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2021-12-22向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本一種多離子源質(zhì)譜儀器在說(shuō)明書摘要公布了:本發(fā)明屬于多離子源質(zhì)譜檢測(cè)技術(shù)。本發(fā)明的多離子源質(zhì)譜儀器,包括:試劑入口、空心陰極區(qū)域、試劑離子產(chǎn)生區(qū)、反應(yīng)室、電極、樣品入口、EI樣品入口管線、差分真空接口板、差分真空接口孔、高真空腔體;所述試劑入口、空心陰極區(qū)域、試劑離子產(chǎn)生區(qū)、反應(yīng)室和高真空腔體依次相連;所述樣品入口設(shè)置在在反應(yīng)室靠近試劑離子產(chǎn)生區(qū)一側(cè);所述反應(yīng)室內(nèi)部四周有多塊電極;所述EI樣品入口管線設(shè)置在靠近差分真空接口板一側(cè)的電極和差分真空接口板之間;所述差分真空接口板在反應(yīng)室和高真空腔體相連處,在所述差分真空接口板中間設(shè)有差分真空接口孔。本發(fā)明的整個(gè)切換裝置無(wú)電機(jī)、磁鐵等可動(dòng)部件結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,可靠性高。
本發(fā)明授權(quán)一種多離子源質(zhì)譜儀器在權(quán)利要求書中公布了:1.多離子源質(zhì)譜儀器,其特征在于,包括:試劑入口、空心陰極區(qū)域、試劑離子產(chǎn)生區(qū)、反應(yīng)室、電極、樣品入口、EI樣品入口管線、差分真空接口板、差分真空接口孔、高真空腔體和機(jī)械泵抽除口;所述試劑入口、空心陰極區(qū)域、試劑離子產(chǎn)生區(qū)、反應(yīng)室和高真空腔體依次相連;所述樣品入口設(shè)置在在反應(yīng)室靠近試劑離子產(chǎn)生區(qū)一側(cè);所述反應(yīng)室內(nèi)部四周有多塊電極;所述EI樣品入口管線設(shè)置在靠近差分真空接口板一側(cè)的電極和差分真空接口板之間;所述差分真空接口板在反應(yīng)室和高真空腔體相連處,在所述差分真空接口板中間設(shè)有差分真空接口孔;所述的高真空腔體包括:EI離子源、第一透鏡和第二透鏡;所述EI離子源、第一透鏡和第二透鏡距差分真空接口板由近及遠(yuǎn)分布在高真空腔體內(nèi);所述EI離子源的出口正對(duì)第一透鏡的入口;所述第一透鏡的出口正對(duì)第二透鏡的入口;所述EI離子源包括:EI源燈絲、EI源接收電極A、EI源接收電極B和EI離子源室;所述EI源燈絲和EI源接收電極A位于EI離子源室同一側(cè);所述EI源燈絲和EI源接收電極A與EI源接收電極B位于EI離子源室兩側(cè);所述EI離子源室的出口正對(duì)第一透鏡的入口;所述機(jī)械泵抽除口設(shè)置在反應(yīng)室下端。
如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人北京雪迪龍科技股份有限公司,其通訊地址為:102206 北京市昌平區(qū)高新三街3號(hào);或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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