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龍圖騰網(wǎng)獲悉南通偉騰半導(dǎo)體科技有限公司申請的專利一種半導(dǎo)體自動化的堿蝕刻設(shè)備獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN114783914B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-03-21發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202210388591.9，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/67；該發(fā)明授權(quán)一種半導(dǎo)體自動化的堿蝕刻設(shè)備是由朱愷華;趙正東;王百強設(shè)計研發(fā)完成，并于2022-04-14向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種半導(dǎo)體自動化的堿蝕刻設(shè)備在說明書摘要公布了：本發(fā)明公開了一種半導(dǎo)體自動化的堿蝕刻設(shè)備，其結(jié)構(gòu)包括機架，機架上設(shè)有半導(dǎo)體的堿蝕刻區(qū)，堿蝕刻區(qū)頂部的兩側(cè)設(shè)有兩個相互平行的導(dǎo)軌，導(dǎo)軌上均設(shè)有可滑動的底板，兩個底板均沿著堿蝕刻區(qū)的延伸方向進行循環(huán)往復(fù)滑動且滑動方向始終相反，底板上設(shè)有可活動的滑板，滑板在底板上的活動位置分別設(shè)為移動區(qū)、工位區(qū)，滑板的端部設(shè)有升降氣缸，升降氣缸的輸出端設(shè)有自轉(zhuǎn)電機，自轉(zhuǎn)電機的輸出端朝下且設(shè)有半導(dǎo)體的固定槽，滑板在移動區(qū)時，兩個滑板的端部之間保持有安全距離，滑板在工位區(qū)時，固定槽位于堿蝕刻區(qū)的正上方，本發(fā)明提高了半導(dǎo)體的堿蝕刻效率。

本發(fā)明授權(quán)一種半導(dǎo)體自動化的堿蝕刻設(shè)備在權(quán)利要求書中公布了：1.一種半導(dǎo)體自動化的堿蝕刻設(shè)備，其結(jié)構(gòu)包括機架（1），其特征在于：所述機架（1）上設(shè)有半導(dǎo)體的堿蝕刻區(qū)（101），所述堿蝕刻區(qū)（101）頂部的兩側(cè)設(shè)有兩個相互平行的導(dǎo)軌（2），所述導(dǎo)軌（2）上均設(shè)有可滑動的底板（21），兩個所述底板（21）均沿著所述堿蝕刻區(qū)（101）的延伸方向進行循環(huán)往復(fù)滑動且滑動方向始終相反，所述底板（21）上設(shè)有可活動的滑板（22），所述滑板（22）在所述底板（21）上的活動位置分別設(shè)為移動區(qū)、工位區(qū)，所述滑板（22）的端部設(shè)有升降氣缸（23），所述升降氣缸（23）的輸出端設(shè)有自轉(zhuǎn)電機（24），所述自轉(zhuǎn)電機（24）的輸出端朝下且設(shè)有半導(dǎo)體的固定槽（25），所述滑板（22）在所述移動區(qū)時，兩個所述滑板（22）的端部之間保持有安全距離，所述滑板（22）在所述工位區(qū)時，所述固定槽（25）位于所述堿蝕刻區(qū)（101）的正上方；所述機架（1）上設(shè)有固定框架（4），所述導(dǎo)軌（2）固定在所述固定框架（4）上，所述固定框架（4）上設(shè)有平行于所述導(dǎo)軌（2）的橫向齒條（41），所述底板（21）的底部設(shè)有可轉(zhuǎn)動的驅(qū)動齒輪（42），所述底板（21）上設(shè)有驅(qū)動所述驅(qū)動齒輪（42）轉(zhuǎn)動的驅(qū)動電機（43），所述驅(qū)動齒輪（42）嚙合連接在所述橫向齒條（41）上；所述底板（21）的底部設(shè)有垂直向下的豎板（5），所述固定框架（4）的側(cè)面設(shè)有導(dǎo)向軌道（51），所述導(dǎo)向軌道（51）平行于所述導(dǎo)軌（2），所述豎板（5）上設(shè)有滑塊（52），所述滑塊（52）滑動設(shè)置在所述導(dǎo)向軌道（51）上；所述豎板（5）的底部設(shè)有平行于水平面的固定板（6），所述固定板（6）上設(shè)有可滑動的殘液收集槽（61），所述殘液收集槽（61）的滑動方向靠近或者遠離所述堿蝕刻區(qū)（101），所述升降氣缸（23）帶動所述固定槽（25）移動到所述堿蝕刻區(qū)（101）的上方時，所述殘液收集槽（61）的滑動位置始終位于所述固定槽（25）的正下方，所述升降氣缸（23）帶動所述固定槽（25）向所述堿蝕刻區(qū)（101）的內(nèi)部移動時，所述殘液收集槽（61）遠離所述堿蝕刻區(qū)（101）進行滑動。

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