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南通偉騰半導(dǎo)體科技有限公司朱愷華獲國家專利權(quán)

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龍圖騰網(wǎng)獲悉南通偉騰半導(dǎo)體科技有限公司申請的專利一種半導(dǎo)體自動化的堿蝕刻設(shè)備獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號為:CN114783914B

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-03-21發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為:202210388591.9,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H01L21/67;該發(fā)明授權(quán)一種半導(dǎo)體自動化的堿蝕刻設(shè)備是由朱愷華;趙正東;王百強設(shè)計研發(fā)完成,并于2022-04-14向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

一種半導(dǎo)體自動化的堿蝕刻設(shè)備在說明書摘要公布了:本發(fā)明公開了一種半導(dǎo)體自動化的堿蝕刻設(shè)備,其結(jié)構(gòu)包括機架,機架上設(shè)有半導(dǎo)體的堿蝕刻區(qū),堿蝕刻區(qū)頂部的兩側(cè)設(shè)有兩個相互平行的導(dǎo)軌,導(dǎo)軌上均設(shè)有可滑動的底板,兩個底板均沿著堿蝕刻區(qū)的延伸方向進行循環(huán)往復(fù)滑動且滑動方向始終相反,底板上設(shè)有可活動的滑板,滑板在底板上的活動位置分別設(shè)為移動區(qū)、工位區(qū),滑板的端部設(shè)有升降氣缸,升降氣缸的輸出端設(shè)有自轉(zhuǎn)電機,自轉(zhuǎn)電機的輸出端朝下且設(shè)有半導(dǎo)體的固定槽,滑板在移動區(qū)時,兩個滑板的端部之間保持有安全距離,滑板在工位區(qū)時,固定槽位于堿蝕刻區(qū)的正上方,本發(fā)明提高了半導(dǎo)體的堿蝕刻效率。

本發(fā)明授權(quán)一種半導(dǎo)體自動化的堿蝕刻設(shè)備在權(quán)利要求書中公布了:1.一種半導(dǎo)體自動化的堿蝕刻設(shè)備,其結(jié)構(gòu)包括機架(1),其特征在于:所述機架(1)上設(shè)有半導(dǎo)體的堿蝕刻區(qū)(101),所述堿蝕刻區(qū)(101)頂部的兩側(cè)設(shè)有兩個相互平行的導(dǎo)軌(2),所述導(dǎo)軌(2)上均設(shè)有可滑動的底板(21),兩個所述底板(21)均沿著所述堿蝕刻區(qū)(101)的延伸方向進行循環(huán)往復(fù)滑動且滑動方向始終相反,所述底板(21)上設(shè)有可活動的滑板(22),所述滑板(22)在所述底板(21)上的活動位置分別設(shè)為移動區(qū)、工位區(qū),所述滑板(22)的端部設(shè)有升降氣缸(23),所述升降氣缸(23)的輸出端設(shè)有自轉(zhuǎn)電機(24),所述自轉(zhuǎn)電機(24)的輸出端朝下且設(shè)有半導(dǎo)體的固定槽(25),所述滑板(22)在所述移動區(qū)時,兩個所述滑板(22)的端部之間保持有安全距離,所述滑板(22)在所述工位區(qū)時,所述固定槽(25)位于所述堿蝕刻區(qū)(101)的正上方;所述機架(1)上設(shè)有固定框架(4),所述導(dǎo)軌(2)固定在所述固定框架(4)上,所述固定框架(4)上設(shè)有平行于所述導(dǎo)軌(2)的橫向齒條(41),所述底板(21)的底部設(shè)有可轉(zhuǎn)動的驅(qū)動齒輪(42),所述底板(21)上設(shè)有驅(qū)動所述驅(qū)動齒輪(42)轉(zhuǎn)動的驅(qū)動電機(43),所述驅(qū)動齒輪(42)嚙合連接在所述橫向齒條(41)上;所述底板(21)的底部設(shè)有垂直向下的豎板(5),所述固定框架(4)的側(cè)面設(shè)有導(dǎo)向軌道(51),所述導(dǎo)向軌道(51)平行于所述導(dǎo)軌(2),所述豎板(5)上設(shè)有滑塊(52),所述滑塊(52)滑動設(shè)置在所述導(dǎo)向軌道(51)上;所述豎板(5)的底部設(shè)有平行于水平面的固定板(6),所述固定板(6)上設(shè)有可滑動的殘液收集槽(61),所述殘液收集槽(61)的滑動方向靠近或者遠離所述堿蝕刻區(qū)(101),所述升降氣缸(23)帶動所述固定槽(25)移動到所述堿蝕刻區(qū)(101)的上方時,所述殘液收集槽(61)的滑動位置始終位于所述固定槽(25)的正下方,所述升降氣缸(23)帶動所述固定槽(25)向所述堿蝕刻區(qū)(101)的內(nèi)部移動時,所述殘液收集槽(61)遠離所述堿蝕刻區(qū)(101)進行滑動。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)@麢?quán)人南通偉騰半導(dǎo)體科技有限公司,其通訊地址為:226500 江蘇省南通市如皋市如城街道旺源路99號;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。

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