恭喜中國工程物理研究院電子工程研究所楊天宇獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜中國工程物理研究院電子工程研究所申請的專利帶位移放大齒的行波微執行器結構、制備方法及微型電機獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115132914B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-03-21發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202210762276.8,技術領域涉及:H10N30/30;該發明授權帶位移放大齒的行波微執行器結構、制備方法及微型電機是由楊天宇;陳余;李小石;孫翔宇設計研發完成,并于2022-06-30向國家知識產權局提交的專利申請。
本帶位移放大齒的行波微執行器結構、制備方法及微型電機在說明書摘要公布了:本發明公開了帶位移放大齒的行波微執行器結構、制備方法及微型電機,涉及行波微執行器技術領域,其技術方案要點是:包括依次設置的PZT層、頂硅結構層以及多個定子齒;多個所述定子齒以圓周分布方式布置在頂硅結構層背向PZT層的側面,且相鄰的定子齒間隔設置。一方面,利用PZT?SOI片中的背硅支撐層制備定子齒;另一方面,采用兩個PZT?SOI片的鍵合方式實現行波微執行器結構的制備。本發明結合MEMS工藝在原PZT結構的基礎上,有效解決了PZT薄膜的摩擦磨損問題,同時可以提升輸出力矩。
本發明授權帶位移放大齒的行波微執行器結構、制備方法及微型電機在權利要求書中公布了:1.帶位移放大齒的行波微執行器結構,其特征是,包括依次設置的PZT層1、頂硅結構層2以及多個定子齒5;多個所述定子齒5以圓周分布方式布置在頂硅結構層2背向PZT層1的側面,且相鄰的定子齒5間隔設置。
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