美商新思科技有限公司R·M·魯格獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉美商新思科技有限公司申請的專利基于由人工神經網絡預測的失效模式應用掩模版增強技術方案獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114222993B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-07-04發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080057283.7，技術領域涉及：G06F30/367；該發明授權基于由人工神經網絡預測的失效模式應用掩模版增強技術方案是由R·M·魯格;J·A·希瑟洛特設計研發完成，并于2020-08-03向國家知識產權局提交的專利申請。
本基于由人工神經網絡預測的失效模式應用掩模版增強技術方案在說明書摘要公布了：對于光刻掩模布局驗證，針對一組設計意圖中的每個設計意圖通過標識在制造設計意圖時預期出現的一組失效并且記錄該組失效中的每個失效的失效模式和位置來收集訓練數據。接下來，訓練數據被用于訓練機器學習模型、例如人工神經網絡，以預測失效的失效模式和位置。然后，使用經訓練的機器學習模型來預測針對給定設計意圖的一組失效。接下來，對于每個所預測的失效，可以基于失效的失效模式選擇掩模版增強技術RET方案，并且所選擇的RET方案可以被應用于失效的位置周圍的區域。
本發明授權基于由人工神經網絡預測的失效模式應用掩模版增強技術方案在權利要求書中公布了：1.一種用于集成電路設計的方法，包括： 針對一組設計意圖中的每個設計意圖，通過以下項收集訓練數據： 標識在所述設計意圖被制造時預期出現的一組失效，并且 記錄所述一組失效中的每個失效的失效模式和位置，其中 為每個失效模式創建單獨的設計層，以標記屬于所述失效模式的失效的位置；以及 由處理器使用所述訓練數據來訓練神經網絡，以預測針對第一設計意圖的失效的失效模式和位置，所述第一設計意圖與所述一組設計意圖中的設計意圖不同。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人美商新思科技有限公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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