恭喜華中科技大學王興晟獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜華中科技大學申請的專利一種集成電路器件電場偏微分方程的求解系統(tǒng)、訓練方法及求解方法獲國家發(fā)明授權專利權,本發(fā)明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN119884568B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-06-03發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉:該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為:202510360868.0,技術領域涉及:G06F17/13;該發(fā)明授權一種集成電路器件電場偏微分方程的求解系統(tǒng)、訓練方法及求解方法是由王興晟;江品鋒;王樂天;彭治梁;方藝龍;王怡;繆向水設計研發(fā)完成,并于2025-03-26向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種集成電路器件電場偏微分方程的求解系統(tǒng)、訓練方法及求解方法在說明書摘要公布了:本發(fā)明公開了一種集成電路器件電場偏微分方程的求解系統(tǒng)、訓練方法及求解方法,屬于集成電路技術領域;在分別提取到集成電路器件的幾何參數(shù)、電學參數(shù)和材料屬性的全局特征后,通過融合模塊構建幾何?電學?材料三耦合機制對幾何參數(shù)、電學參數(shù)和物理屬性的全局特征進行融合,首先引入物理場一致性映射機制,將電學特征映射至與幾何特征對齊的高維特征空間,確保兩者在空間上的一致性和表達上的互補性,增強電學特征與幾何特征的耦合能力,然后通過注意力機制,動態(tài)評估幾何參數(shù)、電學參數(shù)和材料屬性在不同電場區(qū)域的相互影響程度,動態(tài)實現(xiàn)三者特征的深度耦合,解決了集成電路器件電場求解中非線性復雜區(qū)域的表達問題,提高了求解的準確性。
本發(fā)明授權一種集成電路器件電場偏微分方程的求解系統(tǒng)、訓練方法及求解方法在權利要求書中公布了:1.一種集成電路器件電場偏微分方程的求解系統(tǒng),其特征在于,包括:幾何特征提取模塊,用于提取集成電路器件幾何參數(shù)的特征,得到第一全局幾何特征;電學特征提取模塊,用于提取集成電路器件電學參數(shù)的特征,得到第一全局電學特征;材料特征提取模塊,用于提取集成電路器件材料屬性的特征,得到第一全局材料特征;融合模塊,用于對第一全局幾何特征、第一全局電學特征和第一全局材料特征進行融合,得到融合特征;編碼模塊,用于對融合特征進行編碼,得到編碼特征;解碼模塊,用于對編碼特征進行解碼,得到集成電路器件的電場分布;其中,融合模塊包括:第一特征提取器,用于將第一全局幾何特征按照集成電路器件結構進行空間網格劃分,得到每個網格單元的局部幾何特征;分別對各局部幾何特征進行特征提取,得到各網格單元的幾何參數(shù)特征;對各網格單元的幾何參數(shù)特征進行嵌入化處理,得到各網格單元的幾何嵌入特征,共同構成第二全局幾何特征;第二特征提取器,用于對第一全局電學特征進行多個尺度的特征提取,并對所得的各尺度特征進行嵌入化處理,得到各尺度所對應的電學嵌入特征,共同構成第二全局電學特征;第三特征提取器包括全連接層,用于將第二全局幾何特征與第二全局電學特征相加后的特征輸入至全連接層后進行特征提取,并將所提取的特征與第一全局材料特征相加,得到第二全局材料特征;融合器,用于將第二全局幾何特征、第二全局電學特征和第二全局材料特征分別作為查詢矩陣、鍵矩陣和值矩陣,基于注意力機制進行融合,得到融合特征。
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