恭喜奧特邏科公司那允中獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜奧特邏科公司申請的專利光學裝置和成像系統獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN118538821B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-30發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202410614534.7，技術領域涉及：H10F30/24；該發明授權光學裝置和成像系統是由那允中;梁哲夫;鄭斯璘;陳書履;朱冠禎;林崇致;劉漢鼎設計研發完成，并于2018-02-28向國家知識產權局提交的專利申請。
本光學裝置和成像系統在說明書摘要公布了：本發明涉及一種光學裝置和成像系統。光學裝置包含：一基板，具有一第一材料；一吸收區，具有一第二材料，所述第二材料不同于所述第一材料，所述吸收區配置成吸收光子并且生成光載流子，所述光載流子包括在吸收的光子響應下產生的電子和空穴；一第一阱區，圍繞所述吸收區并且設置在所述吸收區和所述基板之間，所述第一阱區摻雜有一第一極性；一個或多個開關，其分別由一相應的控制信號控制，所述一個或多個開關分別配置成基于所述相應的控制信號收集所述光載流子的至少一部分，并且將所述光載流子的部分提供給一相應的讀出電路；以及在所述基板中一個或多個隔離結構，所述一個或多個隔離結構包含一個或多個絕緣體隔離、注入物隔離或異質結隔離。
本發明授權光學裝置和成像系統在權利要求書中公布了：1.一種光學裝置，其特征在于，包含：一基板，具有一第一材料；一吸收區，具有一第二材料，所述第二材料不同于所述第一材料，所述吸收區配置成吸收光子并且生成光載流子，所述光載流子包括在吸收的光子響應下產生的電子和空穴；一第一阱區，圍繞所述吸收區并且設置在所述吸收區和所述基板之間，其中所述第一阱區摻雜有一第一極性；一個或多個開關，其分別由一相應的控制信號控制，所述一個或多個開關分別配置成基于所述相應的控制信號收集所述光載流子的至少一部分，并且將所述光載流子的部分提供給一相應的讀出電路；以及在所述基板中一個或多個隔離結構，所述一個或多個隔離結構包含一個或多個絕緣體隔離、注入物隔離或異質結隔離。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人奧特邏科公司，其通訊地址為：美國；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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