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龍圖騰網(wǎng)恭喜株式會社力森諾科申請的專利研磨液、研磨液套劑、研磨方法以及缺陷抑制方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN111433311B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-30發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：201880077769.X，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C09K3/14；該發(fā)明授權(quán)研磨液、研磨液套劑、研磨方法以及缺陷抑制方法是由高橋壽登;花野真之;瀧澤壽夫設(shè)計研發(fā)完成，并于2018-10-01向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本研磨液、研磨液套劑、研磨方法以及缺陷抑制方法在說明書摘要公布了：一種研磨液，含有：包含從由氧化鈰和氧化硅構(gòu)成的群中選出的至少一種的磨粒、含氮化合物和水，所述含氮化合物含有從由以下化合物構(gòu)成的群中選出的至少一種：I具有環(huán)內(nèi)含1個氮原子的芳香環(huán)和羥基的化合物、II具有環(huán)內(nèi)含1個氮原子的芳香環(huán)和含氮原子的官能團的化合物、III具有環(huán)內(nèi)含2個氮原子的6元環(huán)的化合物、IV具有苯環(huán)和環(huán)內(nèi)含氮原子的環(huán)的化合物，以及V具有結(jié)合有2個以上含氮原子的官能團的苯環(huán)。

本發(fā)明授權(quán)研磨液、研磨液套劑、研磨方法以及缺陷抑制方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種研磨液，包括：包含從由氧化鈰和氧化硅構(gòu)成的群中選出的至少一種的磨粒、含氮化合物和水，所述含氮化合物包含選自磺胺、對氨基苯甲酰胺、2,5-二甲基吡嗪、2,3-二甲基吡嗪、2,3-二乙基吡嗪、2,3,5,6-四甲基吡嗪和1-苯基-3-吡唑烷酮中的至少一種，所述含氮化合物的含量為0.005～10質(zhì)量％；pH為5.0以上。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人株式會社力森諾科，其通訊地址為：日本東京都港區(qū)東新橋一丁目9番1號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。